M4型全譜直讀光譜儀M系列全譜直讀光譜儀采用國際標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合，運用高分辯率CMOS檢測器，精密設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)，使儀器的性能M4應(yīng)用于多基體的、高性能的全譜直讀光譜儀01其優(yōu)異的分析性能、非常緊湊的儀器結(jié)構(gòu)02用于多種基體、多種材料的分析，分析范圍覆蓋了幾乎所有的重要元素，可以滿足絕大多數(shù)現(xiàn)代鑄造業(yè)的應(yīng)用需求

M4型全譜直讀光譜儀
M系列全譜直讀光譜儀采用國際標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合，運用高分辯率CMOS檢測器，精密設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)，使儀器的性能

M4應(yīng)用于多基體的、高性能的全譜直讀光譜儀
01 其優(yōu)異的分析性能、非常緊湊的儀器結(jié)構(gòu)
02 用于多種基體、多種材料的分析，分析范圍覆蓋了幾乎所有的重要元素，可以滿足絕大多數(shù)現(xiàn)代鑄造業(yè)的應(yīng)用需求。
03 高亮度全息光柵具備3600條/mm刻線，使得分光系統(tǒng)具有的分辯率。
04 氬氣吹掃光室配置了優(yōu)化設(shè)計的低流速吹氬系統(tǒng)，既保證的使用成本又保證紫外區(qū)的透過率。
05 應(yīng)用高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流、更好的檢出限、更高的穩(wěn)定性、更強的靈敏度。
06 全數(shù)字化的智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。
07 一體式開放火花臺，可以滿足各種不同樣品結(jié)構(gòu)的分析。
08 配置多條工廠校正曲線及更多的材料分析方法和*的解決方案。
09 可根據(jù)用戶的材料要求，延長標準曲線的測量上、下限。
精密設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)
光室密封性強，可保持內(nèi)部氬氣長期純凈。
光室空間優(yōu)化設(shè)計，降低氬氣消耗，有效節(jié)約產(chǎn)生成本。
低氬氣吹掃系統(tǒng)，確保光室UV波段測量環(huán)境。
光室充氬免除復(fù)雜的真空系統(tǒng)。
 
高分辯率CMOS檢測器實現(xiàn)全譜分析
譜線覆蓋了所有的重要元素，滿足所有基體和材料的分析。
高靈敏的紫外區(qū)檢測，對N的分析檢測更準確。
可有效選擇元素靈敏線，保證分析的準確度。
多峰擬合技術(shù)，有效消除譜線干擾，實現(xiàn)精準測量。

分析軟件功能*
1）基于Windows系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實用；
2）管理的控制整個測量過程及為用戶提供*的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力；
3）儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*解決方案；
4）軟件實現(xiàn)全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力；
5）完備的自動系統(tǒng)診斷功能；
6）*的數(shù)據(jù)庫管理功能，可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)；
7)智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠；
8）完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準；
9）適應(yīng)新的Windows操作系統(tǒng)。
主要技術(shù)參數(shù)

項目	M2	M4
檢測基體	單基體	多基體
光學(xué)系統(tǒng)	帕型-龍格結(jié)構(gòu)	帕型-龍格結(jié)構(gòu)
光室結(jié)構(gòu)	充氬方式	充氬循環(huán)方式
波長范圍	165-580nm	165-580nm（可擴展）
光柵焦距	150mm	300mm
光柵刻線	3600條/mm	3600條/mm
探 測 器	多CMOS檢測器	多CMOS檢測器
光源類型	可編程脈沖數(shù)字光源	可編程脈沖數(shù)字光源
儀器尺寸	643*450*270	714*558*270
儀器重量	30Kg	40Kg

應(yīng)用領(lǐng)域：冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。