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詳細介紹
為配合客戶降低生產成本之所需，本公司特研發(fā)此體積小高產能的新一
代真空鍍膜設備。其特點為︰高自動化、抽氣速率快；新穎的轉盤
設計大大的提升了真空鍍膜設備的效能﹔單腔體運作可降低維修成本；
三濺射靶同時鍍膜亦可令鍍膜時間縮短
代真空鍍膜設備。其特點為︰高自動化、抽氣速率快；新穎的轉盤
設計大大的提升了真空鍍膜設備的效能﹔單腔體運作可降低維修成本；
三濺射靶同時鍍膜亦可令鍍膜時間縮短
系統規(guī)格
| 生產速度 | 一爐25 分鐘可放256 制具 約 2265088 PCS<0603>/40 min | |
| 換料方式 | 制具轉盤整組更換 | |
| 高真空幫浦 | 高真空冷凍幫浦10 inch | |
| 粗真空幫浦 | 機械幫浦，抽氣速率：1000L/min | |
| 真空工作室 | 不銹鋼，附循環(huán)冷卻水管路 | |
| 濺射靶源 | 5×22 inch 磁場環(huán)繞平面陰極×3 | |
| 真空計量 | 低真空計TC gauge 1.0E3～1.0E-3 Torr 高真空計Ion gauge 1.0E-3～ 1.0E-5 Torr | |
| 濺射電源 | 10kw 直流電漿電源供應器×3 | |
| 制程控制 | 觸控屏幕操作之 全自動控制/手動 控制單元 | |
| 制程氣體 | 氬氣0～200sccm | |
| 工作壓力 | 1.5E-1～1.0E-5 Torr |
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