產(chǎn)品特點(diǎn)： 由主機(jī)+系統(tǒng)軟件+電極系統(tǒng)+計(jì)算機(jī)+打印機(jī)組成電化學(xué)分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)可完成三十多種電化學(xué)研究與分析方法，應(yīng)用于電化學(xué)機(jī)理研究、電極過(guò)程動(dòng)力學(xué)研究、金屬腐蝕、生物學(xué)及冶金、制藥、環(huán)境生態(tài)學(xué)領(lǐng)域。

電化學(xué)分析系統(tǒng)/電化學(xué)分析儀 型號(hào)；HAD-LK98BII

由主機(jī)+系統(tǒng)軟件+電極系統(tǒng)+計(jì)算機(jī)+打印機(jī)組成電化學(xué)分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)可完成三十多種電化學(xué)研究與分析方法，應(yīng)用于電化學(xué)機(jī)理研究、電極過(guò)程動(dòng)力學(xué)研究、金屬腐蝕、生物學(xué)及冶金、制藥、環(huán)境生態(tài)學(xué)領(lǐng)域。測(cè)定無(wú)機(jī)金屬離子、有機(jī)物（酚類(lèi)、酮類(lèi)、芳香族化合物）。



技術(shù)參數(shù)：
1、恒電位/恒電流
? 電位分辨率（） 0.1mV
? 電流靈敏度 ≤50pA
? 時(shí)間分辨率（計(jì)時(shí)分析法） 0.1 mS
2、動(dòng)態(tài)參數(shù)調(diào)整
? 電勢(shì)控制范圍 －10.0～+10.0V
? 恒電流范圍 -500～+500mA
? 槽壓 -50V～+50V
? 電位增量 0.2mV～50V
? 脈沖寬度 0.0001～10Sec
? 方波頻率 1～100KHz
? 交流頻率 1～10KHz
? 二次諧波交流頻率 1～1KHz
? 采樣間隔 0.0001～60000Sec
? 平衡時(shí)間 0～60000Sec
? 濾波參數(shù) 50Hz～1000KHz
? 電勢(shì)信號(hào)掃描范圍 10.0V
? 掃描速度 0.1mV/S～5000V/S（△E=1mV）
? 脈沖間隔 0.0001～60000Sec
? 脈沖振幅 0.001～0.5V
? 方波幅度 0.001～0.5V
? 交流幅度 0.001～0.4V
? 電解時(shí)間 1～60000Sec
? 電沉積時(shí)間 0～60000Sec
? 電流測(cè)量范圍 ±100mA～±10nA （8個(gè)量程檔位）





主要特點(diǎn)：
可提供的電化學(xué)方法

恒電位技術(shù)：?jiǎn)坞娢浑A躍計(jì)時(shí)電流法、雙電位階躍計(jì)時(shí)電流法、計(jì)時(shí)電量法、電流—時(shí)間曲線、開(kāi)路電位--時(shí)間曲線、控制電位電解庫(kù)侖法、電位溶出E-T曲線、微分電位溶出分析法。

線性掃描技術(shù)：線性掃描伏安（極譜）法、循環(huán)伏安法及無(wú)限次循環(huán)伏安、塔菲爾曲線、采樣電流極譜（伏安）法、線性掃描溶出伏安法。

脈沖技術(shù)：常規(guī)脈沖伏安（極譜）法、差分脈沖伏安（極譜）法、差分常規(guī)脈沖伏安（極譜）法、差分脈沖溶出伏安法。

方波技術(shù)：方波伏安（極譜）法、循環(huán)方波伏安法、方波溶出伏安法。

恒電流技術(shù)：?jiǎn)坞娏麟A躍計(jì)時(shí)電位法、雙電流階躍計(jì)時(shí)電位法、線性電流計(jì)時(shí)電位法、控制電流電解庫(kù)侖法。

交流技術(shù)：交流伏安法、選相交流伏安法、二次諧波交流伏安法、交流溶出伏安法。

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： 電化學(xué)分析系統(tǒng) 電化學(xué)分析儀