• 高速、準(zhǔn)確
• 完整集成了實(shí)時(shí)測(cè)量、建模和報(bào)告軟件包
• 便于在線和離線間切換

可獲得的信息

• 薄膜厚度
• 光學(xué)常數(shù)（n,k）
• 材料組成

UVISEL Plus在線監(jiān)控橢偏儀可以很容易的安裝在各類反應(yīng)腔（PECVD、MOCVD、磁控濺射、蒸鍍、ALD和MBE），實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜沉積或刻蝕過(guò)程。

UVISEL Plus在線橢偏儀結(jié)合了速度快、靈敏度高、動(dòng)態(tài)范圍寬和準(zhǔn)確等優(yōu)點(diǎn)，使其能夠在原子層水平監(jiān)控沉積/刻蝕，即使過(guò)程速度比較快也可實(shí)現(xiàn)。

采用新型適配器組件可以實(shí)現(xiàn)臺(tái)式設(shè)備和在線系統(tǒng)的切換。

UVISEL Plus在線橢偏儀使用DeltaPsi2軟件驅(qū)動(dòng)，該軟件適用于HORIBA所有橢偏儀。DeltaPsi2具有眾多*的建模和擬合處理功能，操作界面簡(jiǎn)單，可為研究者提供便捷的橢偏分析手段。*的通訊協(xié)議，TCP/IP和RS232已被設(shè)計(jì)用于生產(chǎn)環(huán)境和OEM。

• 光譜范圍：190-885 nm，可擴(kuò)展至 190-2100 nm
• 光源：75W氙燈或150W氙燈
• 探測(cè)系統(tǒng)：?jiǎn)吸c(diǎn)或?qū)崟r(shí)光譜采集使用高靈敏度，寬動(dòng)態(tài)范圍的PMT探測(cè)器和掃描單色儀，原位監(jiān)控薄膜沉積/蝕刻
• 光斑尺寸@300：50μm , 100μm & 1mm
• 機(jī)械適配器：CF35或KF40法蘭