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公司動態(tài)

NTRON Microx-223氧分析儀如何監(jiān)控半導體立式退火爐氧含量

發(fā)布時間:2025-1-23


NTRON Microx-223氧分析儀在監(jiān)控半導體立式退火爐氧含量時,可以遵循以下步驟和要點:


1.安裝與校準

安裝位置:將Microx-223氧分析儀安裝在半導體立式退火爐的氣體出口或?qū)iT的取樣點,確保傳感器能夠直接、準確地接觸到爐內(nèi)處理過程中的氣體。

校準:在安裝之前,對氧分析儀進行的校準,包括零點校準和量程校準。這可以確保測量結果的準確性和可靠性。


2.報警與監(jiān)控閾值設置

設置報警閾值:在控制系統(tǒng)中,為Microx-223氧分析儀設置報警閾值。當氧含量超過或低于這些閾值時,系統(tǒng)應能夠觸發(fā)警報,以通知操作人員及時采取措施。

監(jiān)控閾值:設置監(jiān)控閾值以便操作人員和質(zhì)量控制團隊可以持續(xù)監(jiān)控氧含量,并據(jù)此調(diào)整工藝參數(shù)或進行故障排除。


3.技術參數(shù)與應用特點

測量范圍:Microx-223氧分析儀的測量范圍為1ppm到25%的氧氣含量,滿足半導體工藝對氧含量監(jiān)測的精度要求。

傳感器技術:采用快速響應的LT氧化鋯傳感器,確保了對氧含量變化的快速準確感知。

環(huán)境適應性:專為嚴苛環(huán)境應用而開發(fā),具有可靠的氧化鋯傳感器技術和快速響應的特性,使其能夠在半導體立式退火爐等復雜環(huán)境中穩(wěn)定運行。


4.維護與校準

定期維護:根據(jù)制造商的建議和半導體工藝的要求,定期對Microx-223氧分析儀進行維護和檢查,確保其長期穩(wěn)定運行。

校準頻率:根據(jù)使用情況定期對氧分析儀進行校準,以保證測量結果的準確性。

 

 

 

 

產(chǎn)品特點 

● 測量范圍:1ppm-25% O2

● 響應快(T90響應時間<10>

● 導軌式安裝

● LCD 顯示和 4 個多功能按鈕

● 4-20mA 信號輸出

● RS-232 通訊協(xié)議 (可選485通訊)

● 24VDC 供電

● 3 組繼電器報警

● M18x1.5 螺紋過程接口(可選KF40法蘭)


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