詳細介紹
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一、產品總述:
半導體芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷卻用水,基板晶圓片檢測清洗用水,中段晶圓片濺鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗,后段檢測封裝清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生長用水,中段主要在曝光、顯影、去光阻清洗用水,后段檢測封裝用水。同時,半導體行業(yè)對TOC的要求較高。
二、產品優(yōu)勢:
1、設備配置采用預處理+反滲透主機,有效去除各種鹽份及雜質,高效產水,水質達標,運行費用低
2、AI全自動運行,具有缺水保護和低壓保護等安全保護裝置
3、全套配置齊全,一體化結構,占地面積少,安裝使用方便
4、進口椰殼活性炭,吸附效果是普通活性炭的5倍以上,有效保護RO膜使用壽命
5、*石英砂技術,過濾效果是普通石英砂3倍,多重保護RO膜使用壽命
6、進口高精密陶氏RO反滲透膜,過濾精度可達0.0001微米,純水可直飲
7、南方立式泵加壓,智能出水保護系統(tǒng),使用起來更便捷
8、全國5大工廠,,費用節(jié)省45%
我司安排現(xiàn)場安裝、調試、培訓以及定期保養(yǎng)。更多產品型號及價格,
三、制水工藝:
原水箱→原水加壓泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→全自動軟水器(選用)→保安過濾器→一級反滲透系統(tǒng)→純水箱-輸送泵系統(tǒng)(選用)
四、江輝環(huán)?,F(xiàn)場安裝調試工程圖

五、反滲透純水設備系統(tǒng)適用行業(yè)
六、根據(jù)水質要求采用適合工業(yè)流程和設備材質
| 產水水質 | 制水工藝 | 過濾罐材質 | 管道材質 | 備注 |
| 電導率≤ 10us/cm | 一級反滲透(RO) | 玻璃鋼(FRP)/不銹鋼 | UPVC/304不銹鋼 | |
| 電導率≤ 5us/cm | 二級RO | 玻璃鋼(FRP)/不銹鋼 | UPVC/304不銹鋼 | |
| 電導率≤ 2us/cm | 二級RO | 304不銹鋼/316不銹鋼 | UPVC/304不銹鋼/316不銹鋼 | |
| 電導率≤ 1us/cm 電阻率≥1Ω·m | 一級RO+EDI 二級RO+EDI 一級RO+混床 | 玻璃鋼(FRP)/不銹鋼 | UPVC/304不銹鋼 | |
| 電導率≤ 0.067us/cm 電阻率≥15Ω·m | 二級RO+EDI | 玻璃鋼(FRP)/不銹鋼 | UPVC/304不銹鋼 | |
| 電導率≤ 0.055us/cm 電阻率≥18.2Ω·m | 二級RO+EDI+拋光 二級RO+混床+拋光 | 玻璃鋼(FRP)/不銹鋼 | UPVC/304不銹鋼 |
七、PLC操作系統(tǒng)顯示界面:

八、江輝環(huán)保純水設備系統(tǒng)服務流程

九、江輝環(huán)保純水設備系統(tǒng)產品服務
①售后服務
⑴從設計到生產、運行、售后全程資料,免費長期保存。
⑵設備運行狀況終身跟蹤,短信、電話提醒客戶更換耗材,免費提供設備運行記錄技術分析服務,對系統(tǒng)運行狀況進行判斷,防患于未然。
⑶設備故障30分鐘提出解決方案,24小時內上門維修。
②產品培訓
培訓至少1-2名設備操作管理人員。
培訓內容:基礎理論、設備構造、設備操作、CIP清洗消毒、設備維護保養(yǎng)、儀表校正、設備故障排除、現(xiàn)場實操等。
③品質承諾
確保設備安全穩(wěn)定運行,終身維護。
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