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NX-A10/A20/B100光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600

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更新時間:2024-03-17 09:53:24瀏覽次數(shù):437

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產(chǎn)品簡介

光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600納米壓印光刻機(jī)、 簡稱NIL 、NIL光刻機(jī)、軟紫外納米壓印,熱壓印, 紫外納米壓印步進(jìn)閃光壓印,

詳細(xì)介紹

光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600納米壓印光刻機(jī)、 簡稱NIL 、NIL光刻機(jī)、軟紫外納米壓印,熱壓印,  紫外納米壓印步進(jìn)閃光壓印, 軟模具的, 熱和紫外復(fù)合壓印工藝  逆壓印, 激光輔助直接壓印, 連續(xù)壓印,滾壓印, 基底完整壓印光刻, 軟分子尺度壓印, 超聲納米壓印, 靜電輔助納米壓印, 流體介電泳和電毛細(xì)力驅(qū)動納米壓印

光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600

 

 

 

型號

選購說明

NX-A10

小型臺式基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓印或紫外壓?。?/span>

zui大50毫米直徑壓印面積  熱壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

NX-A20

小型臺式基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓印和紫外壓?。?/span>

zui大50毫米直徑壓印面積  熱壓印和紫外壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

58mW/cm2紫外LED光源;365納米或395納米波長可選;全自動化控制

NX-B100

多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓印或紫外壓?。?/span>

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

NX-B200

多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓印和紫外壓?。?/span>

zui大75毫米直徑壓印面積  熱壓印和紫外壓印

加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘

58mW/cm2紫外LED光源;365納米或395納米波長可選;全自動化控制

NX-1000

多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓印或紫外壓印)

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選   熱壓印 加熱速度>300℃/分鐘  制冷速度>150℃/分鐘

NX-2000

多功能整片基板納米壓印系統(tǒng)(熱壓印和紫外壓?。?/span>

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選   熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源;365納米或395納米波長可選;全自動化控制

NX-2500

多功能整片基板帶對準(zhǔn)功能多層次的納米壓印系統(tǒng)

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源;365納米或395納米波長可選;全自動化控制

帶對準(zhǔn)功能(亞1微米對準(zhǔn)精度) 多層次的納米壓印

對準(zhǔn)模塊 <1μm 3σ對準(zhǔn)準(zhǔn)確率 X, Y, Z, Theta平臺

分場光學(xué)和CCD相機(jī)

NX-2600

多功能整片基板帶對準(zhǔn)功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統(tǒng)

可選背面對準(zhǔn)

標(biāo)配4英寸,6或8英寸壓印面積可選

熱壓印和紫外壓印

加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘

200W窄帶紫外光源;365納米或395納米波長可選;全自動化控制

帶對準(zhǔn)功能(亞1微米對準(zhǔn)精度) 多層次的納米壓印

對準(zhǔn)模塊 <1μm 3σ對準(zhǔn)準(zhǔn)確率 X, Y, Z, Theta平臺

分場光學(xué)和CCD相機(jī)

標(biāo)配5”模板,標(biāo)配4”直徑基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源

 

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