EDI(Electrodeionization)中文稱為電去離子技術(shù)，是結(jié)合了兩種成熟的去離子技術(shù)——電滲析去離子技術(shù)和離子混床去離子技術(shù)的一種新型成熟水處理技術(shù)。

它通過的設(shè)計，使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室，使水中雜質(zhì)離子被樹脂吸附，從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的再生，因此保持活性。而釋放的雜質(zhì)離子將在直流電場的作用下，定向移動，通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。

這樣一個純化過程持續(xù)的進行純化——再生——純化，達到持續(xù)高效生產(chǎn)高純水的目的。

EDI技術(shù)特點

1、持續(xù)長久的生產(chǎn)超純水，出水水質(zhì)15 MΩ·cm -18 MΩ·cm；

2、綠色技術(shù)，無需酸堿再生，減少了對環(huán)境的污染；

3、低能耗，高水質(zhì)；

4、超長純化水道設(shè)計，使進水行程更大，純化時間更長，出水水質(zhì)穩(wěn)定

5、 獨立密封圈設(shè)計，杜絕膜堆滲漏；

6、無需清洗，無需再生；

7、 濃水、極水回收利用，有效的節(jié)約使用成本；

8、操作、維護簡便，使用更加便捷；
9、零部件獨立設(shè)計制作，保證產(chǎn)品品質(zhì)穩(wěn)定。
                                          
運行參數(shù)

控制方式PLC/PLC+觸摸屏

電源380V/50Hz

給水RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。

PH5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)

溫度5-35℃

進水壓力較大為4kg/cm2(60psi)，較小為1.5kg/cm2(25psi)。

EDI的進水要求

反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-20μs/cm，較大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm（NaCl）。

pH值 7.5—9

溫度 15℃--35℃

進水壓力（DIN）0.15—0.4MPa

濃水進水壓力（C ） 0 10 0 3MP IN） 0.10—0.3MPa

產(chǎn)水壓力(DOUT)0.05—0.25MPa

濃水出水壓力(COUT) 0.02—0.2MPa

進水硬度＜1.0ppm(以CaCO 計）(推薦0 5ppm以下）

進水有機物TOC＜0.5ppm

進水硅SiO2＜0.5ppm

進水總CO2＜3ppm 
進水顆粒度＜1μm

可選配置

預(yù)處理系統(tǒng)

石英砂過濾器，活性炭過濾器，離子軟化器，保安過濾器，超濾系統(tǒng)，換熱器，多效蒸餾器

加藥系統(tǒng)

阻垢劑，絮凝劑，PH（酸/堿）

測控儀表

流量檢測儀，電導(dǎo)儀，PH儀，電阻儀，SDI儀，硬度檢測儀，溫度檢測儀，ORP儀

清洗裝置

清洗水泵，清洗濾器，清洗水箱，溫度計，加熱器

應(yīng)用范圍

電力行業(yè)鍋爐、火電、發(fā)電、冷卻循環(huán)

餐飲行業(yè)飲料、食品、乳業(yè)、飲水、酒店

電鍍行業(yè)鍍膜、照明、鍍金屬

光電行業(yè)光伏、光電、照明、新能源

電子行業(yè)電器、芯片、線路板、單片機、電子原件

能源行業(yè)氧化、半導(dǎo)體、硅材料、多晶硅、金屬提取等

工藝流程