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XRF分析儀主要由激發(fā)源(X射線管)和探測(cè)系統(tǒng)構(gòu)成。其原理就是：X射線管通過(guò)產(chǎn)生入射X射線(一次X射線)，來(lái)激發(fā)被測(cè)樣品。受激發(fā)的樣品中的每一種元素會(huì)放射出二次X射線(又叫X熒光)，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長(zhǎng)特性。XRF分析儀一般有以下三點(diǎn)分析模式：
1、點(diǎn)分析
將電子探針固定在試樣感興趣的點(diǎn)上，進(jìn)行定性或定量分析。該方法用于顯微結(jié)構(gòu)的成份分析，例如，對(duì)材料晶界、夾雜、析出相、沉淀物、奇異相及非化學(xué)計(jì)量材料的組成等分析。
2、線分析
電子束沿一條分析線進(jìn)行掃描(或試樣掃描)時(shí)，能獲得元素含量變化的線分布曲線。如果和試樣形貌像(二次電子像或背散射電子像)對(duì)照分析,能直觀地獲得元素在不同相或區(qū)域內(nèi)的分布。沿感興趣的線逐點(diǎn)測(cè)量成分，也可以劃出該線的成分變化曲線。
3、面分析
將電子束在試樣表面掃描時(shí)，元素在試樣表面的分布能在CRT上以亮度分布顯示出來(lái)（定性分析)，亮度越亮，說(shuō)明元素含量越高。研究材料中雜質(zhì)、相的分布和元素偏析常用此方法。面分布常常與形貌像對(duì)照分析。
點(diǎn)、線、面分析方法用途不同，檢測(cè)靈敏度也不同，定點(diǎn)分析靈敏度zui高，面掃描分析靈敏度zui低。