南京涂料行業(yè)超純水設(shè)備無(wú)錫電池行業(yè)用超純水設(shè)備南通化工行業(yè)用超純水設(shè)備應(yīng)用范圍概述：電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗電子管生產(chǎn)　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)　玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產(chǎn)　屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片

南京涂料行業(yè)超純水設(shè)備 無(wú)錫電池行業(yè)用超純水設(shè)備 南通化工行業(yè)用超純水設(shè)備

應(yīng)用范圍概述：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 電子管生產(chǎn)　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)　玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水 液晶顯示器的生產(chǎn)　屏面需用純水清洗和用純水配液 晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片 硅片純水 光伏硅材料DI超純水設(shè)備-硅圓生長(zhǎng)/切片清洗高純水 硅材料單晶硅DI

涂料行業(yè)用超純水的工藝流程:
電池行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：
　　 1、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽(yáng)樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽(yáng)樹脂混床→微孔過濾器→用水點(diǎn)
　　 2、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
　　 3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)

涂料行業(yè)用超純水的工藝比較：
　　 1、種采用離子交換樹脂其優(yōu)點(diǎn)在于初投資少，占用的地方少，但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生，耗費(fèi)大量酸堿，而且對(duì)環(huán)境有一定的破壞性。
　　 2、第二種采用兩級(jí)反滲透設(shè)備，其特點(diǎn)為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但無(wú)須樹脂再生。其缺點(diǎn)在于相關(guān)膜原件需定期清洗或更換，水質(zhì)相對(duì)來(lái)說不是太高，大都只能做到1us/cm左右，所以在不質(zhì)要求更高的時(shí)候常采用一級(jí)反滲透后面再用混床（陰陽(yáng)復(fù)床）把關(guān)。
　　 3、第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水，的超純水制備工藝，不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對(duì)環(huán)境沒什么破壞性。其缺點(diǎn)在于初投資相對(duì)以上兩種方式過于昂貴。

設(shè)備特點(diǎn):

為滿足用戶需要，達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級(jí)的污染，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計(jì)上，取達(dá)國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，再設(shè)有介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。
電子行業(yè)超純水設(shè)備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計(jì)算機(jī)硬盤、線路板等工藝所需的純水和超純水制備.在嚴(yán)格執(zhí)行ISO-9001國(guó)際質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)的前提下,采用*的反滲透膜元件.壓力容器和高壓泵、配以合理而又高效的前處理設(shè)備及后處理設(shè)備,使產(chǎn)品出水符合各類電子行業(yè)生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的超純水.控制系統(tǒng)選用PLC或計(jì)算機(jī)DCS程序控制,可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)起停、加藥及沖洗,自動(dòng)監(jiān)測(cè)各種運(yùn)行參數(shù),并可實(shí)現(xiàn)運(yùn)行參數(shù)的儲(chǔ)存及打印 廣泛適用于： 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學(xué)試劑 光導(dǎo)纖維、光盤

達(dá)到標(biāo)準(zhǔn):
純化水標(biāo)準(zhǔn)，注射水標(biāo)準(zhǔn) 顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)（經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)）

集成電路用純水水質(zhì)

國(guó)家電子級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)

美國(guó)SEMI標(biāo)準(zhǔn)

詳情：