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硅片熱臺 RT400XRD

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更新時間:2022-07-08 13:51:50瀏覽次數(shù):340

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產(chǎn)品簡介

硅片熱臺 RT400XRD

詳細介紹

溫度范圍:室溫~400℃

加熱平臺:φ200mm

平面射角:-40°≤α≤40°,射線垂面射角:-2°≤β≤70°

升溫速率<5℃/min

主測溫:熱電偶,紅外測溫(輔助)

溫度顯示/控制精度:0.1℃/0.5℃

實驗環(huán)境:腔體密閉,可充氣氛

冷卻方式:循環(huán)水冷

溫度控制:調(diào)節(jié)器精度0.2級,PID人工智能控制,50段程序

溫控軟件:中英文界面切換,實時操控,多點溫度校正、可設(shè)置溫速、控溫區(qū)間等,工藝曲線顯示與記錄

運動控制儀:一軸熱臺水平移動,一軸熱臺旋轉(zhuǎn),一軸紅外測溫移動。手動或軟件操控。


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