該設(shè)備主要用于攝像頭模組表面微塵清洗，通過(guò)高壓純水沖洗及水氣二流體清洗，從而實(shí)現(xiàn)了有效去除Holder，CMOS本體，Wafer等表面微塵顆粒。

設(shè)備特性 ：

●一鍵式操作，整個(gè)清洗過(guò)程全自動(dòng)完成，無(wú)需人工干預(yù)；

●離心速度可調(diào)；

●鏡面不銹鋼結(jié)構(gòu)，并設(shè)有工藝觀察窗口，實(shí)用美觀；

●專(zhuān)業(yè)設(shè)計(jì)，二級(jí)過(guò)濾，無(wú)二次污染；

●設(shè)備能耗低，運(yùn)行噪音小，環(huán)境友好；

●設(shè)備外形緊湊，占地面積小，調(diào)配便捷；

●霧化效果均勻，二流體壓力均勻，運(yùn)行安全穩(wěn)定；

●全體系儀表監(jiān)測(cè)，并設(shè)有報(bào)警裝置；

●純水自動(dòng)加壓過(guò)濾，確保清洗效果。