詳細介紹
導波雷達發(fā)出的高頻微波脈沖沿著探測組件(鋼纜或鋼棒)傳播,遇到被測介質(zhì),由于介電常數(shù)突變,引起反射,一部分脈沖能量被反射回來。發(fā)射脈沖與反射脈沖的時間間隔與到被測介質(zhì)的距離成正比。
容器中存在兩種不同介質(zhì),當上面一層的介質(zhì)介電常數(shù)較小,而下面的介質(zhì)介電常數(shù)較大時,高頻微波脈沖沿著探測組件傳播遇到上層介質(zhì)時,由于其介電常數(shù)較小,因而有極少的能量被這一層介面反射,而大部分能量穿透上層介質(zhì)繼續(xù)向下傳播,遇到兩層的介面時,由于下層介質(zhì)的介電常數(shù)較大,因而會有較大的能量被反射回來。因而導波雷達是可以測量兩種不同介質(zhì)的介面,其測量條件是上層介質(zhì)不導電或其介電常數(shù)比下層介質(zhì)介電常數(shù)小10以上。
特 點
由于采用了的微波處理器和的EchoDiscovery回波處理技術(shù),導波雷達物位計可以應用于各種復雜工況。
多種過程連接方式及探測組件的型式,使得CDGW系列導波雷達物位計適用于各種復雜工況。如:高溫、高壓及小介電常數(shù)介質(zhì)等。
采用脈沖工作方式,導波雷達物位計發(fā)射功率極低,可安裝于各種金屬、非金屬容器內(nèi),對人體及環(huán)境均無傷害。應用:液體測量,高溫高壓工況,復雜過程條件
*大量程: 纜:30m/棒:6m
測量精度:±10mm
過程連接:G1?A/G2A/1?NPT
探測組件材料:不銹鋼316L/陶瓷
鋼纜/棒直徑:¢6mm/¢10mm
過程溫度:-200~400℃
過程壓力:真空~400bar
信號輸出:兩線制4~20mA/HART
容器中存在兩種不同介質(zhì),當上面一層的介質(zhì)介電常數(shù)較小,而下面的介質(zhì)介電常數(shù)較大時,高頻微波脈沖沿著探測組件傳播遇到上層介質(zhì)時,由于其介電常數(shù)較小,因而有極少的能量被這一層介面反射,而大部分能量穿透上層介質(zhì)繼續(xù)向下傳播,遇到兩層的介面時,由于下層介質(zhì)的介電常數(shù)較大,因而會有較大的能量被反射回來。因而導波雷達是可以測量兩種不同介質(zhì)的介面,其測量條件是上層介質(zhì)不導電或其介電常數(shù)比下層介質(zhì)介電常數(shù)小10以上。
特 點
由于采用了的微波處理器和的EchoDiscovery回波處理技術(shù),導波雷達物位計可以應用于各種復雜工況。
多種過程連接方式及探測組件的型式,使得CDGW系列導波雷達物位計適用于各種復雜工況。如:高溫、高壓及小介電常數(shù)介質(zhì)等。
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