納米壓印系統(tǒng)

納米壓印系統(tǒng)

型號：MicroTec
廠家：德國Karl Suss
技術(shù)指標(biāo):
壓印精度：30nm 
重復(fù)性：±10nm（pitch）
                 ±15nm（depth） 
晶圓尺寸：2”, 4’’
模具尺寸：6’’
脫模方式：真空順序脫模

主要功能及應(yīng)用范圍：  采用氣體軟壓技術(shù)，壓印均一性與一致性良好。典型使用領(lǐng)域：光子晶體、亞波長光學(xué)器件、OLED、生物微溝道、有機(jī)薄膜晶體管、漸變折射率層等。