由于常規(guī)實(shí)驗(yàn)室涂布試驗(yàn)機(jī)，受到刮刀調(diào)節(jié)，底板平整度等的影響很難達(dá)到涂布納米級(jí)膜。狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)底板采用多種平臺(tái)方式包括檢驗(yàn)級(jí)大理石平臺(tái)，真空吸附平臺(tái)，精密模具鋼平臺(tái)，玻璃平臺(tái)等，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過(guò)進(jìn)料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度，同時(shí)高配版涂布機(jī)軟件

系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。濕膜厚度可以達(dá)到1微米，干膜厚度可以達(dá)到納米級(jí)別。在國(guó)內(nèi)光學(xué)膜涂布實(shí)驗(yàn)室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應(yīng)用。