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廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號(hào)

XMD

訪問(wèn)次數(shù)

2578

產(chǎn)地

江蘇蘇州市

更新時(shí)間

2026/9/23 21:45:59

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

自潔涂料高剪切研磨分散機(jī)產(chǎn)品參數(shù)

變速方式 減速器變速,變頻變速,變速帶變速,電磁變速 產(chǎn)地 進(jìn)口
產(chǎn)品大小 中型 產(chǎn)品新舊 全新
分散機(jī)類型 實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),調(diào)速分散機(jī),高速分散機(jī),剪切分散機(jī),乳化分散機(jī),升降分散機(jī),防爆分散機(jī) 分散盤(pán)型式 平盤(pán)鋸齒式,三義槳式,碟式
結(jié)構(gòu)類型 立式 每次處理量 10000L
升降形式 液壓,機(jī)械 速度范圍 400rpm以下,400-1200rpm,200rpm以上
速度類別 有級(jí)變速(多速),單速,雙速,無(wú)級(jí)變速 物料類型 液-液,干粉,膏體,固-液,固體顆粒
自動(dòng)化程度 全自動(dòng)
展開(kāi)更多
自潔涂料高剪切研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

自潔涂料高剪切研磨分散機(jī)詳細(xì)信息

自潔涂料高剪切研磨分散機(jī) 

納米超親水自潔涂料高速分散機(jī),二氧化硅分散機(jī),納米二氧化硅高速分散機(jī),納米防水涂料 ,水性超親水無(wú)機(jī)納米樹(shù)脂高速分散機(jī)是指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質(zhì)中的分散體系。在分散過(guò)程中,往往需要減小固體顆粒,這就是濕磨或高剪切分散。

超親水自清潔涂料是由水性超親水無(wú)機(jī)納米樹(shù)脂,配合高活性光觸媒配制而成。在太陽(yáng)光的照射和雨水沖刷下下可有效保持表面的潔凈,減少灰塵和臟污附著,另外涂層具有增透作用,有效增加可見(jiàn)光的透過(guò)率??蓮V泛用于太陽(yáng)能電池板表面、建筑玻璃幕墻清潔、鏡面防霧、汽車(chē)后視鏡防雨滴等市場(chǎng)領(lǐng)域。

經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單擦涂、噴涂,可在30min常溫迅速固化。

如何快速分散親水無(wú)機(jī)納米樹(shù)脂 是需要解決問(wèn)題  

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SID定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XM2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出XMD2000超高速剪切研磨分散機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)20000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.

2、設(shè)備特點(diǎn)

⑴  XMD設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比:

高效、節(jié)能

傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過(guò)程,ERS設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散*,能耗*降低;

高速、高品質(zhì)

傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;ERS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。

⑵ XMD設(shè)備與同類設(shè)備相比:

多層多向剪切分散

同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級(jí)多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現(xiàn)象;

XMD設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更為*。

XMD2000進(jìn)口超高剪切研磨分散機(jī)
研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

自潔涂料高剪切研磨分散機(jī) 

關(guān)鍵詞:分散機(jī) 膠體磨

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