2021-07-13 20:20:57588
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OxfordSystem100等離子刻蝕與沉積設備，是一個靈活和功能*的等離子體刻蝕和淀積工藝設備。采用真空進樣室進樣可進行快速的晶片更換、采用多種工藝氣體并擴大了允許的溫度范圍。具有工藝靈活性，適用于化合物半導體，
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