產(chǎn)品描述：極域 真空 鍍膜 系統(tǒng) 用途概述 極域真空鍍膜系統(tǒng)以真空性能與全域工藝覆蓋為內(nèi)核，成為半導體、光學、新能源等制造領域的設備，助力客戶突破鍍膜技術瓶頸，實現(xiàn)高精度、高...

極域真空鍍膜系統(tǒng)
用途概述
極域真空鍍膜系統(tǒng)以“真空性能”與“全域工藝覆蓋”為內(nèi)核，成為半導體、光學、新能源等制造領域的設備，助力客戶突破鍍膜技術瓶頸，實現(xiàn)“高精度、高效率、”的智造升級。
產(chǎn)品特點
※HMDS蒸汽分子均勻聚合并精準附著于晶圓表面，實現(xiàn)納米級鍍膜均勻性；
※真空性能，高效真空泵可加快真空建立時間，支持快速啟停生產(chǎn)，確保工藝穩(wěn)定性；
※尾氣處理系統(tǒng)可降低HMDS采購成本，HMDS/有機溶劑回收率高，符合RoHS/REACH標準。
※采用PLC工控自動化系統(tǒng)，人機界面采用觸摸屏，可靠性高，操作智能方便；
※PLC控制系統(tǒng)具有自動控溫、任意定時、超溫報警等，彩色觸摸屏顯示，控溫準確可靠；
※智能化觸摸屏控制系統(tǒng)，可根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。
※采用鋼化玻璃觀察窗，監(jiān)測方便，一體成型的硅橡膠門封，確保箱內(nèi)密封性好；
※腔體呈立方體或長方體，棱角分明，直角設計增強抗壓性能，內(nèi)部空間利用率高；
※低真空鍍膜工藝的密閉腔體結構，真空環(huán)境可控，確保鍍膜過程無污染、無泄漏；
※承載均勻涂布與多工藝集成，支持蒸發(fā)、濺射、MBE、PLD等多工藝模塊的智能融合，可一次處理4盒晶片。
※采用鋼化玻璃觀察窗，監(jiān)測方便，內(nèi)膽不銹鋼，無易燃易爆裝置，無發(fā)塵材料，一體成型的硅橡膠門封，確保箱內(nèi)密封性好。
 

極	高真空/低真 空精準控制	1.極限真空，象征對真空環(huán)境的高精度控制能力； 2.性能，核心參數(shù)(鍍膜均勻性、工藝穩(wěn)定性等)達行業(yè)。
域	溫度、壓力	1.工藝可控域：精密調(diào)控溫度場、壓力梯度等工藝參數(shù)； 2.技術覆蓋域：兼容蒸發(fā)、濺射、離子鍍等多種鍍膜技術，適配多樣化生產(chǎn)。
應用場景	半導體制造	1.工藝可控域：精密調(diào)控溫度場、壓力梯度等； 2.技術覆蓋域：兼容多種鍍膜技術，適配多樣化生產(chǎn)。
	光學器件鍍膜	1.光學鏡頭抗反射膜(AR)、紅外濾光片多層膜； 2.激光器腔鏡高反射膜(HR)、分光膜。
	新能源與新材料	1.鈣鈦礦太陽能電池電極層(ITO/Ag)沉積； 2.柔性顯示面板(OLED)透明導電膜(AZO)鍍制。
工藝適配	工藝類型	物理氣相沉積(PVD):磁控濺射、電弧離子鍍、電子束蒸發(fā)； 化學氣相沉積(CVD):等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)。
	鍍膜材料	金屬(Al、Cu、Ag)、氧化物(Al?O? 、TiO?)、氮化物(TiN、SiN)等。
典型應用	半導體代工	應用場景：3nm邏輯芯片金屬互聯(lián)層沉積； 客戶價值：提升芯片良率15%,降低電遷移失效風險。
	光學鏡頭制造	應用場景：8K超高清鏡頭抗反射膜鍍制； 客戶價值：反射率<0.1%,透光率>99.5%(400-700nm波段)。
	鈣鈦礦光伏	應用場景：大面積鈣鈦礦電池電極層連續(xù)鍍膜； 客戶價值：電池轉(zhuǎn)換效率突破26%,成本降低30%。
	航空航天	應用場景：衛(wèi)星光學載荷耐輻射保護膜沉積； 客戶價值：通過ISO-15860空間環(huán)境模擬認證。

 
技術參數(shù)

型號	ZDM-90V		ZDM-125V	ZDM-215V
電源電壓	AC 220V 50Hz
控制系統(tǒng)	PLC智能控制
儀表控制	彩色觸摸屏
控溫范圍	RT+10-200℃
溫度分辨率	0.1℃
溫度波動度	±0.1
真空度	≤133pa
內(nèi)膽尺寸	450*450*450		500*500*500	550*550*650
容積	90L		125L	210L
載物托架	2層		3層	3層