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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>制劑機(jī)械及設(shè)備>膠囊劑設(shè)備>拋光機(jī)/磨光機(jī)>BN-YMP2A/YMP2B 雙盤精密研磨拋光機(jī)

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參考價(jià)面議
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廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號(hào)

BN-YMP2A/YMP2B

訪問次數(shù)

91

產(chǎn)地

遼寧沈陽市

更新時(shí)間

2026/8/12 16:39:17

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

雙盤精密研磨拋光機(jī)產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 國(guó)產(chǎn) 產(chǎn)品新舊 全新
結(jié)構(gòu)類型 臥式
BN-YMP2A/B系列雙盤精密研磨拋光機(jī),盤徑230mm,支持干濕磨拋。A型雙盤同步調(diào)速(50-1000轉(zhuǎn)),B型雙盤獨(dú)立變速(50-1500轉(zhuǎn))。均配全銅電機(jī)、矢量變頻及定時(shí)功能,操作簡(jiǎn)便,制樣高效,是金相實(shí)驗(yàn)室的理想選擇。

雙盤精密研磨拋光機(jī)詳細(xì)信息

一、產(chǎn)品概述

本系列雙盤精密研磨拋光機(jī)是專為金相試樣制備設(shè)計(jì)的專業(yè)設(shè)備,集粗磨、細(xì)磨、干磨、濕磨及拋光功能于一體。該系列機(jī)型外形新穎美觀,采用加厚ABS塑料與鈑金/吸塑工藝結(jié)合,經(jīng)久耐用。設(shè)備均配備矢量變頻器,支持無級(jí)調(diào)速、三檔快速切換(B型支持自定義)、正反轉(zhuǎn)調(diào)整及磨拋定時(shí)設(shè)定功能,廣泛適用于各類實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)制樣場(chǎng)景。

核心區(qū)別說明

  • BN-YMP2A (雙盤單變):左右兩盤同步調(diào)速,速度一致。適合常規(guī)制樣流程,性價(jià)比高。

  • BN-YMP2B (雙盤雙變):左右兩盤獨(dú)立調(diào)速,可設(shè)定不同轉(zhuǎn)速。適合同時(shí)進(jìn)行不同工序(如左盤研磨、右盤拋光)的高效作業(yè),且轉(zhuǎn)速更高。


二、詳細(xì)產(chǎn)品介紹

1. BN-YMP2A 型 (雙盤單變)

  • 結(jié)構(gòu)工藝:集污盤和外殼采用加厚ABS塑料注塑工藝整體制成;底盤采用4MM加厚鈑金。

  • 調(diào)速特性:

    • 轉(zhuǎn)速范圍:50 - 1000 r/min。

    • 控制模式:左右兩盤速度同步調(diào)整。

    • 功能:高/中/低三檔快速切換、無級(jí)調(diào)速、正反轉(zhuǎn)、定時(shí)設(shè)定。

  • 適用場(chǎng)景:標(biāo)準(zhǔn)金相制樣,對(duì)雙盤速度一致性要求較高的場(chǎng)景。

2. BN-YMP2B 型 (雙盤雙變)

  • 結(jié)構(gòu)工藝:集污盤和外殼采用加厚ABS塑料吸塑工藝整體制成;殼體表面均采用汽車噴涂工藝4層漆面處理。

  • 調(diào)速特性:

    • 轉(zhuǎn)速范圍:50 - 1500 r/min (動(dòng)力更強(qiáng)勁)。

    • 控制模式:左右兩盤速度獨(dú)立調(diào)整,可設(shè)定不同速度。

    • 功能:高/中/低三檔快速切換 (三檔速度可自定義)、無級(jí)調(diào)速、正反轉(zhuǎn)、定時(shí)設(shè)定。

  • 適用場(chǎng)景:高效率制樣需求,需同時(shí)進(jìn)行不同速度工序,或?qū)Ω咿D(zhuǎn)速有特殊要求的場(chǎng)景。


三、通用產(chǎn)品特點(diǎn)

兩款機(jī)型均具備以下優(yōu)良特性:

  1. 外觀耐用:外殼抗污易打理,維護(hù)保養(yǎng)方便。

  2. 核心電機(jī):采用全銅線圈電機(jī),轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、噪音低、壽命長(zhǎng)。

  3. 優(yōu)質(zhì)水路:水籠頭采用全銅材質(zhì),手感好,不生銹。

  4. 制樣高效:盤徑大 (230mm),跳動(dòng)度小,制樣效果好。

  5. 智能控制:矢量變頻器提供充足動(dòng)力,適應(yīng)不同材料的速度需求。


四、技術(shù)參數(shù)對(duì)比表

參數(shù)項(xiàng)目BN-YMP2A (雙盤單變)BN-YMP2B (雙盤雙變)
產(chǎn)品型號(hào)BN-YMP2ABN-YMP2B
盤徑尺寸研磨/拋光盤直徑:230mm研磨/拋光盤直徑:230mm
轉(zhuǎn)速范圍50 - 1000 r/min (無級(jí)調(diào)速)50 - 1500 r/min (無級(jí)調(diào)速)
速度控制雙盤同步 (相同速度)雙盤獨(dú)立 (可不同速度)
檔位功能高/中/低三檔切換高/中/低三檔切換 (支持自定義)
電機(jī)功率1200W1200W
電源電壓AC 220V, 50HzAC 220V, 50Hz
外形尺寸670 × 740 × 310 mm670 × 740 × 310 mm
整機(jī)凈重42 KG48 KG


五、選型建議

  • 若您的實(shí)驗(yàn)室主要進(jìn)行常規(guī)制樣,且不需要左右盤同時(shí)以不同速度工作,BN-YMP2A 是經(jīng)濟(jì)實(shí)用的選擇。

  • 若您需要提高制樣效率(例如一人同時(shí)操作兩個(gè)不同工序),或者處理硬質(zhì)材料需要更高的轉(zhuǎn)速(>1000 r/min),BN-YMP2B 的獨(dú)立變速和高轉(zhuǎn)速功能將顯著提升工作效率。


關(guān)鍵詞:拋光機(jī)

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