Phenom XL G3 是飛納推出的大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡，可用于植入物表面形貌觀察，幫助分析表面粗糙度相關(guān)形貌、涂層和缺陷特征。

Phenom XL G3 平均成像時(shí)間約 40 秒，可對(duì)最大 100 x 100 mm 的樣品進(jìn)行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測(cè)場(chǎng)景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲，電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm，適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測(cè)試等應(yīng)用。

該產(chǎn)品具備大倉(cāng)室樣品臺(tái)、低/中/高三種真空模式、背散射探測(cè)器，并可根據(jù)需求選配二次電子探測(cè)器和能譜探測(cè)器。具體配置和價(jià)格根據(jù)型號(hào)、功能及應(yīng)用需求確定，可通過(guò)平臺(tái)詢價(jià)/留言入口獲取選型建議，并預(yù)約試樣。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1. 大倉(cāng)室設(shè)計(jì)，可分析最大 100 x 100 mm 樣品。

2. 平均成像時(shí)間約 40 秒，適合多樣品觀察和日常檢測(cè)。

3. 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm。

4. 采用 CeB6 燈絲，使用壽命優(yōu)于 3000 小時(shí)。

5. 支持低、中、高三種真空模式，適合多類材料樣品。

6. 標(biāo)配背散射探測(cè)器，可選配二次電子探測(cè)器和能譜探測(cè)器。

7. 臺(tái)式設(shè)計(jì)，適合實(shí)驗(yàn)室日常部署與使用。

8. 支持選型咨詢，可預(yù)約試樣。

應(yīng)用領(lǐng)域：

可用于植入物表面形貌觀察、醫(yī)療器械涂層檢測(cè)、醫(yī)用金屬材料分析和研發(fā)質(zhì)控。

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品型號(hào)：Phenom XL G3

產(chǎn)品全稱：XL 大倉(cāng)室自動(dòng)化電鏡

產(chǎn)品類型：大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡

光學(xué)放大：3 - 19 X

電子光學(xué)放大：200,000 X

分辨率：優(yōu)于 8 nm

電子槍：CeB6 燈絲，使用壽命優(yōu)于 3000 小時(shí)

光學(xué)導(dǎo)航相機(jī)：彩色

平均成像時(shí)間：約 40 秒

最大樣品尺寸：100 x 100 mm

樣品承載：可同時(shí)容納 36 個(gè)樣品

加速電壓：基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV

高級(jí)模式：4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào)

真空模式：低 / 中 / 高三種模式

探測(cè)器：背散射探測(cè)器

可選探測(cè)器：二次電子探測(cè)器、能譜探測(cè)器