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  • 生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW
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產(chǎn)地

北京市

更新時(shí)間

2026/5/31 9:04:22

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐,專為生長(zhǎng)各種納米線而設(shè)計(jì),基片3″

生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW詳細(xì)信息


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產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 生長(zhǎng)納米線 CVD 爐 OTF-1200X-4-NW 是一種緊湊型 CVD 爐,專為生長(zhǎng)各種納米線而設(shè)計(jì),基 片 3″。在法蘭的左側(cè)裝有一個(gè)小加熱器,可對(duì)輸入的氣體、液體、固體進(jìn)行預(yù)加熱后進(jìn)入 CVD  爐 進(jìn)行納米線的生長(zhǎng)。其可滑動(dòng)的樣品架使操作更為簡(jiǎn)單。


產(chǎn)品型號(hào)

生長(zhǎng)納米線 CVD 爐 OTF-1200X-4-NW

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:不需要


2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氣體,需自備氣瓶氣源


4、工作臺(tái): 尺寸 1600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上


5、通風(fēng)裝置:需要

主要特點(diǎn)

1 、由 OTF-1200X-4 單溫區(qū)爐演變而來(lái)的緊湊型 CVD 爐。


2 、內(nèi)爐膛表面涂有進(jìn)口高溫氧化鋁涂層,可以提高設(shè)備的加熱效率及延長(zhǎng)儀器的使用壽命。


3 、帶樣品支架的右法蘭是滑動(dòng)的,方便樣品的快速取放。


4 、左側(cè)的小加熱器可對(duì)輸入 CVD 爐的氣體、液體、固體或混合物進(jìn)行預(yù)加熱,不銹鋼加熱腔 外徑 30mm 、長(zhǎng) 150mm ,工作溫度 600℃。


5 、左邊法蘭(在加熱器與 CVD 爐之間) 裝有 4 個(gè) 1/4″卡套連結(jié)的通氣管,具有密封和氣體通 道的作用。

6 、PID 自整定數(shù)字控制器 ,可以設(shè)置 30 段升降溫程序。





7、選配相關(guān)軟件可用計(jì)算機(jī)進(jìn)行控溫。


8 、已通過(guò) CE 認(rèn)證。

技術(shù)參數(shù)

1 、額定電壓: 單相 AC 220V    50Hz/60Hz


2、額定功率: 3KW(需 20A 的空氣開(kāi)關(guān))


3、石英管: 外管外徑 ?110mm ,內(nèi)徑 ?102mm ,長(zhǎng) 381mm


4、加熱區(qū)域: CVD 爐 400mm ,加熱器 150mm


5 、工作溫度: CVD 爐 1100℃(<2h),連續(xù)工作 200℃-1000℃, 升降溫速率 10℃ /min;

加熱器連續(xù)工作 0-500℃, 升降溫速率 10℃/min


6 、控溫精度:±1℃


7、熱電偶: K 型


8、右法蘭:一個(gè) 3″石英樣品支架, 與石英擋板、法蘭連成一體, 設(shè)有 KF25 真空快接口, 以 及水冷接口(可選配水冷機(jī), 避免 O 型圈融化)


9、左法蘭: 有 2 個(gè)獨(dú)立 1/4″口,可單獨(dú)將任何氣體通入爐內(nèi),一路 1/4″口將預(yù)熱氣體通入 CVD 爐,一路 1/4″口將不加熱的氣體通入爐內(nèi),并通過(guò)爐內(nèi)的 T 型結(jié)構(gòu)與加熱氣體匯合

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸: 1200mm×450mm×510mm;重量: 100kg

可選配件

1、水冷機(jī)


2、控溫軟件


關(guān)鍵詞:控制器 熱電偶

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