真空熱壓爐
產(chǎn)品應用：
該設備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛的條件下進行加壓加熱燒結處理，以便獲得高致密度的產(chǎn)品，例如生產(chǎn)高精度氮化硅陶瓷軸承等。
產(chǎn)品特點：
爐蓋采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層封頭結構，與法蘭組焊成一個整體。其中內(nèi)壁精密拋光，外壁噴砂鈍化處理。爐蓋上設有冷卻水進出口、上壓頭安裝座、壓力傳感器接、自動充放氣接等。
加熱采用優(yōu)質高純石墨作發(fā)熱體，圓周排布，保證溫場的穩(wěn)定性，且高純石墨純度高，無揮發(fā)，有效保證爐腔內(nèi)的清潔度。隔熱材料采用石墨纖維碳氈，保溫效果好，耐沖擊性好。整個隔熱屏采用金屬框架固定，便于安裝與維護。
電氣控制系統(tǒng)可實行自動控溫，PID帶有自整定功能。
真空熱壓爐設備核心結構由七大系統(tǒng)構成，協(xié)同保障加工穩(wěn)定性。爐體采用雙層水冷夾套設計，內(nèi)層為拋光不銹鋼腔體，外層為碳鋼防護，夾層通水冷卻可使爐壁溫度控制在60℃以內(nèi)，兼顧密封性與安全性。加熱系統(tǒng)多采用石墨發(fā)熱體或感應線圈，石墨發(fā)熱體zui高溫度可達2500℃，升溫速率快且熱場均勻；感應加熱則適配高精度加工需求，控溫精度更優(yōu)。
真空與氣氛系統(tǒng)是核心配置，由機械泵、擴散泵或分子泵組成，冷態(tài)極限真空度可達4×10?3~6×10??Pa，壓升率≤0.26Pa/h，同時支持充入Ar、N?、H?等保護氣體，適配不同材料加工需求。壓力系統(tǒng)采用液壓驅動，可實現(xiàn)單向或雙向加壓，壓力范圍30T~2000T可調(diào)，壓頭平面精度達±5μm，壓力控制精度≤±0.5%，搭配光柵尺位移監(jiān)測，實時反饋壓頭行程，精度可達0.05mm。
控制系統(tǒng)采用PLC與PID算法，實現(xiàn)溫度、壓力、真空度的閉環(huán)精準控制，溫度均勻性±5℃，支持工藝參數(shù)編程存儲、實時曲線顯示與數(shù)據(jù)追溯，同時配備超溫、斷水、過壓聲光報警及急停裝置，quan方位保障作業(yè)安全。冷卻系統(tǒng)采用外循環(huán)設計，壓力2~10bar，可實現(xiàn)工件快速降溫，提升加工效率并避免熱應力開裂。
采購中心
