為配合客戶降低生產(chǎn)成本之所需,本公司特研發(fā)此體積小高產(chǎn)能的新一
代真空鍍膜設(shè)備。其特點(diǎn)為︰高自動(dòng)化、抽氣速率快;新穎的轉(zhuǎn)盤(pán)
設(shè)計(jì)大大的提升了真空鍍膜設(shè)備的效能﹔單腔體運(yùn)作可降低維修成本;
三濺射靶同時(shí)鍍膜亦可令鍍膜時(shí)間縮短
代真空鍍膜設(shè)備。其特點(diǎn)為︰高自動(dòng)化、抽氣速率快;新穎的轉(zhuǎn)盤(pán)
設(shè)計(jì)大大的提升了真空鍍膜設(shè)備的效能﹔單腔體運(yùn)作可降低維修成本;
三濺射靶同時(shí)鍍膜亦可令鍍膜時(shí)間縮短
系統(tǒng)規(guī)格
| 生產(chǎn)速度 | 一爐25 分鐘可放256 制具 約 2265088 PCS〈0603〉/40 min 〈cycle〉 | |
| 換料方式 | 制具轉(zhuǎn)盤(pán)整組更換 | |
| 高真空幫浦 | 高真空冷凍幫浦10 inch | |
| 粗真空幫浦 | 機(jī)械幫浦,抽氣速率:1000L/min | |
| 真空工作室 | 不銹鋼,附循環(huán)冷卻水管路 | |
| 濺射靶源 | 5×22 inch 磁場(chǎng)環(huán)繞平面陰極×3 | |
| 真空計(jì)量 | 低真空計(jì)TC gauge 1.0E3~1.0E-3 Torr 高真空計(jì)Ion gauge 1.0E-3~ 1.0E-5 Torr | |
| 濺射電源 | 10kw 直流電漿電源供應(yīng)器×3 | |
| 制程控制 | 觸控屏幕操作之 全自動(dòng)控制/手動(dòng) 控制單元 | |
| 制程氣體 | 氬氣0~200sccm | |
| 工作壓力 | 1.5E-1~1.0E-5 Torr |
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