美國(guó)International Light國(guó)際光學(xué)公司自1965年成立以來(lái)，為客戶提供各種光源及設(shè)計(jì)制造精確的光測(cè)量?jī)x器，滿足廣泛的需求，解決光測(cè)量的固有困難。ILT測(cè)光表是易于使??用的高性能儀器，非常適合用作光度計(jì)photometers (勒克斯lux meters)、強(qiáng)度計(jì)intensity meters (坎德拉candela)、固化測(cè)量?jī)x/輻照度計(jì)/光量計(jì)curing meters (劑量和曝光測(cè)量dose and exposure meters)、能量功率計(jì)power meters (瓦或流明watts or lumens)和flash meters (Xenon or LED strobe lamps)。ILT公司的經(jīng)典產(chǎn)品包括UV燈、ILT1400輻射計(jì)及升級(jí)款ILT2400輻照計(jì)、ILT1700研究級(jí)光測(cè)量?jī)x。
Photoresist光刻膠是一種光敏化學(xué)物質(zhì)，用于在表面或基材上形成涂層，并用于形成工業(yè)加工的圖案。然后可以將該涂層暴露于稱為光刻膠的作用光譜的特定光帶，以影響光刻膠中期望的變化。這種變化導(dǎo)致光致抗蝕劑變得可溶或不溶于稱為顯影劑的另一種化學(xué)品，該顯影劑將在光致抗蝕劑上被洗滌。一旦顯影，已經(jīng)暴露于作用光譜中的光刻膠保留或被沖走，留下可用于進(jìn)一步處理的圖案，例如化學(xué)蝕刻，雕刻或光刻。
光阻劑廣泛用于PCB印刷電路板行業(yè)，其中通過(guò)其使用蝕刻化學(xué)品來(lái)布置電路連接或印刷電路板跡線。另一個(gè)重要的光刻膠用戶是半導(dǎo)體工業(yè)，它是用于形成單個(gè)半導(dǎo)體器件的微小電路的微圖案的光刻生產(chǎn)中的關(guān)鍵步驟。市場(chǎng)上存在多種光刻膠類型以適應(yīng)各種各樣的應(yīng)用，并且作用光譜可以從一個(gè)波段變化到另一個(gè)波長(zhǎng)。
控制作用光譜曝光設(shè)置（光線輻照強(qiáng)度和曝光時(shí)間）是至關(guān)重要的，它可以避免在加工和生產(chǎn)過(guò)程中光刻膠的浪費(fèi)性下曝光或曝光過(guò)度。為了保持這些設(shè)置，需要具有盡可能接近光阻劑作用光譜的光譜響應(yīng)的測(cè)光表輻照計(jì)來(lái)精確地知道光致抗蝕劑曝光的程度。更復(fù)雜的是，光刻膠暴露的加工設(shè)備通常非常緊湊并且沒(méi)有足夠的空間來(lái)進(jìn)行這些測(cè)量。
美國(guó)ILT國(guó)際光學(xué)致力于提供各種獨(dú)特的光刻膠專用儀器來(lái)實(shí)現(xiàn)這些困難的測(cè)量。如用于ILT2400輻照計(jì)的XSD140B光探測(cè)器探頭可測(cè)量326-401nm波段，輻照度范圍7e-8 ~ 1 W/cm²，直徑大小15x42 mm，另有XSD340B 30 W/cm²高強(qiáng)度探頭，可針對(duì)特定波長(zhǎng)為這些探頭安裝過(guò)濾片以進(jìn)行精準(zhǔn)測(cè)量。
International Light XSD Detectpr系列光刻探測(cè)器
ILT2400+XSD140A：量程4e-8 to 0.7 W/cm2，響應(yīng)波段320-475 nm，校準(zhǔn)于405nm波長(zhǎng)
ILT2400+XSD340A：量程8e-7 to 10 W/cm2，響應(yīng)波段320-475 nm，校準(zhǔn)于405nm波長(zhǎng)
ILT2400+XSD140B：量程7e-8 to 1 W/cm2，光譜范圍326-401 nm，中心波長(zhǎng)365nm
ILT2400+XSD340B：量程3e-6 to 30W/cm2 高強(qiáng)度，測(cè)量光譜326-401 nm，校準(zhǔn)于365nm
規(guī)格文檔說(shuō)明書(shū)/download/201805/ILT2400_XSD140B.pdf
美國(guó)International Light PCB板曝光測(cè)量光刻膠輻照計(jì)與探頭選型表
| 輻照計(jì)/探頭組合 | 響應(yīng)波長(zhǎng)頻譜 | 測(cè)量范圍 | 類型及應(yīng)用 |
| ILT5000, SED033/A/W | 320-475 nm | 2e-9 ~ 2 W/cm² | 臺(tái)式，Photoresist光刻膠/光阻材料， PCB板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, SED033/A/W | 320-475 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻膠/光阻劑，同上 |
| ILT1000/A/W | 320-475 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻/光阻劑， PCB板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT1700, SED033/A/W | 320-475 nm | 7e-9 ~ 4 W/cm² | 臺(tái)式，Photoresist光刻/光阻劑，同上 |
| ILT2400, XSD140A | 320-475 nm | 4e-8 ~ 0.7 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻/光阻劑， PC板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, XSD340A | 320-475 nm | 8e-7 ~ 10 W/cm² | 同上，大功率高強(qiáng)度輻照探頭 |
| ILT5000, SED033/B/W | 326-401 nm | 3e-10 ~ 0.2 W/cm² | 臺(tái)式，Photoresist光刻/光阻劑， PCB線路板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, SED033/B/W | 326-401 nm | 2e-8 ~ 0.2 W/cm² | 手持式，同上 |
| ILT1700, SED033/B/W | 326-401 nm | 5e-9 ~ 0.5 W/cm² | 臺(tái)式，同上 |
| ILT1000/B/W | 326-401 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² | 手持式，同上 |
| ILT2400, XSD140B | 326-401 nm | 7e-8 ~ 1 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻/光阻劑， PCB曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, XSD340B | 326-401 nm | 2e-6 ~ 30 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻膠/光阻劑，高強(qiáng)度測(cè)量 |
| ILT2400, SSD001 | 260-400 nm | 6e-6 ~ 0.9 W/cm² | 手持式，超薄傳感器， PCB板曝光系統(tǒng)，UVA光源，UV-Vis光源 |
ILT2400中文版簡(jiǎn)易操作說(shuō)明書(shū)/download/201805/ILT2400_Quick_Manual.pdf
分析儀軟件介紹文檔/download/201805/ILT_DataLight-Trend-Manual.pdf
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