產(chǎn)品特點:
SUS304不銹鋼電解拋光腔體;
前開門腔體設(shè)計,帶觀察窗;
4英寸襯底載盤,可升級至12英寸;
3支磁控濺射靶槍,可拓展至8支;
1600l/sec渦輪分子泵,串接機械泵或干泵;
13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及500-1000W DC直流電源;
共濺射或反應(yīng)濺射;
PLC+PC自動控制系統(tǒng)。
應(yīng)用領(lǐng)域:
半導(dǎo)體器件
微納米加工技術(shù)
氧化物金屬鍍膜
超導(dǎo)鍍膜,磁學(xué)鍍膜
選配項:
向上、向下或側(cè)面濺射;
RF、DC和脈沖DC濺射;
樣品可旋轉(zhuǎn)并加熱至300℃、500℃或800℃;
高真空泵可選擇分子泵、低溫泵或擴散泵;
全自動壓力控制系統(tǒng);
高精度膜厚監(jiān)測儀;
基于襯底加偏壓或離子源的基片預(yù)清洗;
高真空loadlock。


















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