混懸液分散機

硫酸鋇混懸液GMD2000系列研磨式分散設備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

• 工作原理：通過電動機帶動轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)，物料在定轉(zhuǎn)子間隙間受到*的剪切、研磨和高頻振動作用，被粉碎并均勻分散于液體中。

• 結構特點：多采用直立式設計，便于物料全部進入分散腔，且出料口設計符合生產(chǎn)要求，便于清潔。與物料接觸部分常采用耐磨損、耐腐蝕材料，如 SS316 鋼或哈氏合金等。

• 性能優(yōu)勢：轉(zhuǎn)速高，如部分設備可達 14000rpm，線速度大，剪切率高，可實現(xiàn)顆粒的細化和均勻分散，能有效減少混懸液的沉降，提升穩(wěn)定性。

• 技術參數(shù)：以 高速剪切分散機為例，主軸轉(zhuǎn)速為 0-14000rpm，線速度為 0-44m/s，定轉(zhuǎn)子間隙為 0.2-0.3mm，處理量為 0-10000L/H。

• 應用領域：廣泛應用于醫(yī)藥、農(nóng)藥等領域，如制備口服混懸液、農(nóng)藥懸浮劑等，保障產(chǎn)品的均一性和藥效。

混懸液分散機設備參數(shù)表：