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品牌

廠商性質(zhì)

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型號(hào)

訪問次數(shù)

226

產(chǎn)地

上海

更新時(shí)間

2025/9/7 9:05:05

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品詳細(xì)介紹:802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)適用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣,是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了?203mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤?80mm的平面。在研磨過程中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng),同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng),載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著

自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)詳細(xì)信息

產(chǎn)品詳細(xì)介紹:802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)適用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣,是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了?203mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤?80mm的平面。在研磨過程中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng),同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng),載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤公轉(zhuǎn),使樣品做無規(guī)則運(yùn)動(dòng),使研磨后的樣品表面質(zhì)量均勻。研磨拋光機(jī)配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的精密圓柱狀金屬塊,使研磨后的樣品表面也具有高的平面度,并且不會(huì)使樣品邊緣倒角,對(duì)邊緣要求高的樣品尤其適合。802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若配置適當(dāng)?shù)母郊?/span>(GPC-50A精密磨拋控制儀),可批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。GPC-50A精密研磨拋光儀能嚴(yán)密控制被研磨樣品的平面度和平行度。UNIPOL-802精密研磨拋光機(jī)可以用研磨盤加磨料的方式研磨樣品,也可以選用拋光盤貼砂紙的方式研磨樣品,砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方式裝卡,裝卸方便。具體選用砂紙研磨還是磨料研磨可根據(jù)被研磨樣品的材質(zhì)進(jìn)行選擇。

 

產(chǎn)品名稱

802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)

802

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來水及排水

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:無

4、工作臺(tái):尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通風(fēng)裝置:不需要

主要特點(diǎn)

1、超平拋光盤(平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm)。

2、超精旋轉(zhuǎn)軸(托盤端跳小于0.01mm)。

3、設(shè)有兩個(gè)加工工位。

4、主軸旋轉(zhuǎn)采用無級(jí)調(diào)速控制方式,并設(shè)有數(shù)顯表實(shí)時(shí)顯示轉(zhuǎn)數(shù)。

5、配有定時(shí)器,可準(zhǔn)確控制工作時(shí)間(0-300h之間)。

6、可選配自動(dòng)滴料器或循環(huán)泵,使磨拋更加方便快捷。

技術(shù)參數(shù)

1、電源:110/220V

2、功率:275W  

3、磨拋盤轉(zhuǎn)速:0-250rpm

4、工位:2個(gè)

5、支撐臂擺動(dòng)次數(shù):0-9次/分

6、托盤端跳:0.008/180mm

7、磨拋盤:?203mm

8、載物盤:?80mm

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸:580mm×420mm×350mm;重量:68kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

鑄鐵研磨盤

1個(gè)

2

鑄鋁盤

1個(gè)

3

載物盤

2個(gè)

4

修盤環(huán)

2個(gè)

5

拋光墊(磨砂革、合成革、聚氨酯)

各1片

6

剛玉研磨微粉

0.5kg

7

石蠟棒

4根


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