旋轉(zhuǎn)涂抹裝置

(1) 產(chǎn)品簡介

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片、載玻片、晶片、基片、ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝以及制版的表面涂覆中。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。其轉(zhuǎn)速設(shè)置、操作設(shè)置等均在液晶顯示屏上完成，實現(xiàn)操作的自動化。

(2) 主要特點和技術(shù)指標

1. 采用大觸摸屏界面，界面內(nèi)容清晰可見，方便用戶操作，轉(zhuǎn)速設(shè)置、操作設(shè)置等均在液晶顯示屏上完成；

2. 轉(zhuǎn)速采用PWM 控制方式，準確度高，轉(zhuǎn)速范圍：0~7000 rpm，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性：±1%；

3. 可設(shè)定恒定速率和程序速率功能，轉(zhuǎn)速段數(shù)達到10 段，可自行設(shè)置速率和時間；

4. 內(nèi)置無油微型真空泵，抽氣速率：>30 L/min，真空度：-80 KPa，具有抽氣速率大、噪聲小、振動小等優(yōu)點；

5. 特殊轉(zhuǎn)軸密封結(jié)構(gòu)，可實現(xiàn)較高真空度，以及很強的吸力；

6. 涂膠均勻性：±3%；

7. 采用減震措施，噪音低于60分貝（6000 rpm以內(nèi)）；

8. 配備四氟支撐座，螺紋式吸片結(jié)構(gòu)，可適應(yīng)于Φ5-Φ200mm不同尺寸的基底，范圍大。