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產(chǎn)品簡介
旋轉(zhuǎn)涂抹裝置
(1) 產(chǎn)品簡介
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片、載玻片、晶片、基片、ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝以及制版的表面涂覆中。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點,并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。其轉(zhuǎn)速設(shè)置、操作設(shè)置等均在液晶顯示屏上完成,實現(xiàn)操作的自動化。
(2) 主要特點和技術(shù)指標
1. 采用大觸摸屏界面,界面內(nèi)容清晰可見,方便用戶操作,轉(zhuǎn)速設(shè)置、操作設(shè)置等均在液晶顯示屏上完成;
2. 轉(zhuǎn)速采用PWM 控制方式,準確度高,轉(zhuǎn)速范圍:0~7000 rpm,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性:±1%;
3. 可設(shè)定恒定速率和程序速率功能,轉(zhuǎn)速段數(shù)達到10 段,可自行設(shè)置速率和時間;
4. 內(nèi)置無油微型真空泵,抽氣速率:>30 L/min,真空度:-80 KPa,具有抽氣速率大、噪聲小、振動小等優(yōu)點;
5. 特殊轉(zhuǎn)軸密封結(jié)構(gòu),可實現(xiàn)較高真空度,以及很強的吸力;
6. 涂膠均勻性:±3%;
7. 采用減震措施,噪音低于60分貝(6000 rpm以內(nèi));
8. 配備四氟支撐座,螺紋式吸片結(jié)構(gòu),可適應(yīng)于Φ5-Φ200mm不同尺寸的基底,范圍大。
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