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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>原料藥機(jī)械及設(shè)備>混合設(shè)備>分散機(jī)>GMD2000 水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)

  • 水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)
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參考價(jià) ¥ 100000
訂貨量 ≥1件
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號

GMD2000

訪問次數(shù)

449

產(chǎn)地

上海市

更新時(shí)間

2025/9/2 8:32:23

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產(chǎn)品簡介

水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 進(jìn)口 產(chǎn)品新舊 全新
水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī),如果采用SGN高速剪切研磨分散機(jī)的話就可以解決機(jī)械法存在的問題,使得環(huán)氧樹脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。SGN高速剪切研磨分散機(jī)簡單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機(jī)合二為一,形成兩級的設(shè)備,*級為膠體磨磨頭,實(shí)現(xiàn)研磨細(xì)化的功能;第二級為分散機(jī)分散盤,實(shí)現(xiàn)分散均勻的功能。

水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)詳細(xì)信息

水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī),環(huán)氧樹脂分散機(jī),水性環(huán)氧樹脂分散設(shè)備,涂料分散機(jī),樹脂分散機(jī)


水性環(huán)氧樹脂通常是指環(huán)氧樹脂以微粒、液滴或膠體形式分散于水相中所形成的乳液、水分散體或水溶液,三者之間的區(qū)別在于環(huán)氧樹脂分散相的粒徑不同。                                                                            

水性環(huán)氧樹脂分散后可以制備水性環(huán)氧樹脂涂料,一般有四種方式,較為簡單直接的是機(jī)械法,機(jī)械法即直接乳化法,可用膠體磨、球磨機(jī)、砂磨機(jī)等設(shè)備先將固體環(huán)氧樹脂預(yù)先磨成微米級的環(huán)氧樹脂粉末,然后加入乳化劑水溶液,再通過機(jī)械攪拌將粒子分散于水中; 或?qū)h(huán)氧樹脂和乳化劑混合,加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?,在激烈的攪拌下逐漸加入水而形成乳液。用機(jī)械法制備水性環(huán)氧樹脂乳液的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡單,所需乳化劑用量較少,但乳液中環(huán)氧樹脂分散相微粒尺寸較大,粒子形狀不規(guī)則且尺寸分布較寬,所配得的乳液穩(wěn)定性差,粒子之間容易相互碰撞而發(fā)生凝結(jié)現(xiàn)象,并且該乳液的成膜性能也欠佳。

當(dāng)然,機(jī)械法存在的問題是可以很好的去解決的,乳液穩(wěn)定性差,可以說明兩個(gè)原因,一是水性環(huán)氧樹脂的粒徑?jīng)]有充分的細(xì)化,二是水性環(huán)氧樹脂沒有更好的分散到水中,形成穩(wěn)定的乳液。如果采用SGN高速剪切研磨分散機(jī)的話就可以解決機(jī)械法存在的問題,使得環(huán)氧樹脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。SGN高速剪切研磨分散機(jī)簡單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機(jī)合二為一,形成兩級的設(shè)備,*級為膠體磨磨頭,實(shí)現(xiàn)研磨細(xì)化的功能;第二級為分散機(jī)分散盤,實(shí)現(xiàn)分散均勻的功能。


水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī),接觸過SGN上海思峻的人都知道,SGN膠體磨和SGN分散機(jī)在行業(yè)就是較的設(shè)備,SGN膠體磨和國內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機(jī)和國內(nèi)分散機(jī)相比都是存在巨大優(yōu)勢的,而SGN研磨分散機(jī)又是將二者結(jié)合的設(shè)備,處理效果,不言而喻。

SGN高速剪切研磨分散機(jī)有很高的線速度,以及*級磨頭,特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細(xì)化要求。*級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過更細(xì)的兩級進(jìn)行細(xì)微化研磨。     磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。第二級分散盤,無論是在分散盤的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤要精密的多。


GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表


型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150


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