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  • 激光誘導(dǎo)擊穿光譜(LIBS)
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北京市

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2025/8/4 9:00:34

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什么是激光誘導(dǎo)激光光譜系統(tǒng)? 激光誘導(dǎo)擊穿光譜(LIBS)是一種原子發(fā)射光譜儀

激光誘導(dǎo)擊穿光譜(LIBS)詳細(xì)信息

什么是激光誘導(dǎo)激光光譜系統(tǒng)?

激光誘導(dǎo)擊穿光譜(LIBS)是一種原子發(fā)射光譜儀??梢詫?duì)固相、液相和氣相基體中幾乎所有元素進(jìn)行定性和定量的分析。不同于傳統(tǒng)的檢測(cè)方法如ICP-OES或者XRF,LIBS在檢測(cè)過程中無需進(jìn)行復(fù)雜的樣品制備。為了達(dá)到這個(gè)目的,LIBS采用高能量聚焦脈沖激光光束將樣品激發(fā)至等離子態(tài),對(duì)產(chǎn)生的對(duì)應(yīng)元素發(fā)射譜進(jìn)行分析。元素發(fā)射譜的波長(zhǎng)與元素的種類直接相關(guān),而元素譜線的強(qiáng)度則和元素的含量相關(guān)。

 

激光誘導(dǎo)擊穿光譜技術(shù)特點(diǎn)

激光誘導(dǎo)擊穿光譜技術(shù)系統(tǒng)在進(jìn)行元素分析的時(shí)候,需要樣品量極少,對(duì)樣品的破壞性?。痪哂凶郧鍧嵞芰?,幾乎不需要樣品制備;可以實(shí)現(xiàn)快速實(shí)時(shí)在線分析;具有遙測(cè)能力,可實(shí)現(xiàn)有毒、強(qiáng)輻射等惡劣環(huán)境中的遠(yuǎn)距離、非接觸性測(cè)量;具有ppm量級(jí)探測(cè)靈敏度,可對(duì)痕量元素進(jìn)行探測(cè)。

 

激光誘導(dǎo)擊穿光譜產(chǎn)品構(gòu)成:

多通道光譜儀MX2500+,憑借其高效的外部同步時(shí)鐘,的協(xié)同了所有通道實(shí)現(xiàn)精確的延遲采集,準(zhǔn)確的在原子激發(fā)輻射突出時(shí)采集到完整的原子譜線信號(hào)。同時(shí),MX2500+可以應(yīng)客戶的需求在180-1100nm的范圍內(nèi)自由的配置光譜儀的通道數(shù)量和覆蓋范圍,系統(tǒng)自帶的高效時(shí)鐘可以的同步所有通道,并同時(shí)實(shí)現(xiàn)精確觸發(fā)兩臺(tái)外部設(shè)備。(如激光器或微波增強(qiáng)設(shè)備)

激光器:常使用Nd:YAG激光器,激光器的脈沖寬度一般為納秒量級(jí),能夠在極短時(shí)間內(nèi)在極小面積上集中大量能量,作為系統(tǒng)激勵(lì)源,將樣品表面微量物質(zhì)剝離并激發(fā)出等離子體。

樣品倉(cāng):密閉穩(wěn)定的倉(cāng)式結(jié)構(gòu),一般會(huì)包含樣品平臺(tái),激光聚焦和收光光路,氣體吹掃系統(tǒng),成像系統(tǒng),激光安全保護(hù)等配套裝置。

 

產(chǎn)品特點(diǎn):

· 可搭配穩(wěn)定高效的樣品倉(cāng)系統(tǒng)

· 可升級(jí)光譜模塊

· 支持雙脈沖激光器

· 寬光譜高分辨率測(cè)量,180-1100nm范圍內(nèi)多達(dá)16384個(gè)像元

· 高觸發(fā)信號(hào)精度(±10ns)

 

應(yīng)用方向:

· 環(huán)境監(jiān)測(cè)(土壤污染,工業(yè)生產(chǎn))

· 材料分析(金屬,煤炭,塑料)

· 醫(yī)學(xué)和生物化學(xué)(骨骼,牙齒)

· 國(guó)家安全(爆炸,生化)

· 藝術(shù)品鑒定(顏料,陶瓷,寶石)

 等離子體發(fā)光測(cè)量:

MX2500+不僅僅可以組建激光誘導(dǎo)擊穿光譜系統(tǒng),還可以用在各種各樣的原子光譜測(cè)量場(chǎng)合。例如電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-OES)聯(lián)合使用,作為燃燒爐后端光譜采集設(shè)備。

寬波段、高分辨的多通道光譜儀MX2500+也是激光的測(cè)量的應(yīng)用中的一把利器。

大氣壓輝光放電過程中會(huì)生成等離子體,采用多通道光譜儀MX2500+測(cè)量等離子體,對(duì)使用大氣壓輝光放電的工作實(shí)現(xiàn)了實(shí)時(shí)過程監(jiān)測(cè)。

等離子刻蝕是半導(dǎo)體及微系統(tǒng)制造超大規(guī)模集成電路制造過程中的關(guān)鍵步驟,使用多通道光譜儀MX2500+實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)等離子體光譜,即可在刻蝕過程中精確的定位蝕刻終點(diǎn),提升刻蝕的工藝水平。

技術(shù)參數(shù)

系統(tǒng)性能參數(shù)

可測(cè)元素

原子序數(shù)Z≥1

濃度范圍

≥10ppm,取決于元素種類

樣品性狀

固體或壓片粉末

樣品尺寸

30*30*20mm(x*y*z)

樣品重量

2kg

平移臺(tái)行程范圍

60*60*60mm(x*y*z)

光斑尺寸

≤50um,激光波長(zhǎng)1064nm

激光器波長(zhǎng)

Nd:YAG 1064nm/532nm可選

激光器能量

50mJ/200mJ可選

光纖

抗紫外光纖

成像

可選高倍微觀視野

軟件

控制硬件設(shè)備,獲取數(shù)據(jù)

支持二次開發(fā),動(dòng)態(tài)鏈接庫(kù)

光譜處理算法,熒光背景扣除

光譜儀參數(shù)

波長(zhǎng)范圍

180nm-1100nm

通道數(shù)

1~8通道

光學(xué)分辨率

0.1nm(FWHM)

探測(cè)器

線陣CCD/面陣CCD可選

積分時(shí)間

1ms~65s

觸發(fā)延遲

±450us

觸發(fā)抖動(dòng)

±10ns

尺寸重量

MX2500+尺寸(8通道)

460mm*150mm*165mm

MX2500+重量(8通道)

7kg

樣品倉(cāng)尺寸

450mm*360mm*460mm

樣品倉(cāng)重量

25kg

激光驅(qū)動(dòng)器尺寸

360mm*133mm*435mm

激光驅(qū)動(dòng)器重量

14kg

用戶評(píng)論

發(fā)布評(píng)論
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