雙盤(pán)磨拋機(jī)MP-2為雙盤(pán)臺(tái)式機(jī)，左盤(pán)用于研磨，右盤(pán)用于拋光，可以兩人同時(shí)操作使用。本機(jī)具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、安全可靠、結(jié)構(gòu)緊湊和噪音低等特點(diǎn)，且?guī)в兴鋮s裝置，可以在研磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行粗磨、精磨、粗拋光至精拋光的制樣.雙盤(pán)磨拋機(jī)MP-2是企業(yè)、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。

雙盤(pán)磨拋機(jī)MP-2產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)：

1、磨拋盤(pán)直徑： φ203mm

2、磨拋盤(pán)分別為轉(zhuǎn)速： 450 r/min （左）、600 r/min（右）（可根據(jù)用戶要求定制）

3、輸入電壓：單相  AC220V  50Hz

4、輸入功率：370W

5、外形尺寸：725×710×310mm

6、凈    重：50kg   

雙盤(pán)磨拋機(jī)MP-2產(chǎn)品特點(diǎn)：

MP-2型金相試樣磨拋機(jī)為雙盤(pán)臺(tái)式機(jī)，左盤(pán)用于研磨，右盤(pán)用于拋光，可以兩人同時(shí)操作使用。本機(jī)具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、安全可靠、結(jié)構(gòu)緊湊和噪音低等特點(diǎn)，且?guī)в兴鋮s裝置，可以在研磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行粗磨、精磨、粗拋光至精拋光的制樣，是企業(yè)、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。