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ICP干法等離子刻蝕機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海沛沅儀器設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2025/7/27 8:56:50
  • 訪問(wèn)次數(shù)176
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上海沛沅儀器設(shè)備有限公司專業(yè)從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究開(kāi)發(fā)和相關(guān)設(shè)備、產(chǎn)品的生產(chǎn),并致力于等離子體應(yīng)用技術(shù)的市場(chǎng)推進(jìn)和產(chǎn)業(yè)化。公司由長(zhǎng)期從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究開(kāi)發(fā)、多次參與國(guó)家重大科學(xué)工程研究的專家和產(chǎn)業(yè)化專家聯(lián)合創(chuàng)建,核心團(tuán)隊(duì)來(lái)自中科院應(yīng)用物理研究所、中國(guó)科技大學(xué)、上海科技大學(xué),美國(guó)橡樹(shù)嶺實(shí)驗(yàn)室歸國(guó)博士等科研機(jī)構(gòu)。公司擁有一批等離子體應(yīng)用技術(shù)方面的專家,建立起一支經(jīng)驗(yàn)豐富的融合了等離子體技術(shù)、電氣自控技術(shù)、機(jī)械設(shè)計(jì)加工和成套工程技術(shù)的精英團(tuán)隊(duì)。將團(tuán)隊(duì)本身科研技術(shù)植入到公司產(chǎn)品之中,拓展產(chǎn)品功能,提升產(chǎn)品性能和開(kāi)發(fā)新的應(yīng)用領(lǐng)域。公司在等離子體領(lǐng)域已經(jīng)積累了一整套具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的系列產(chǎn)品和技術(shù),在國(guó)內(nèi)居地位,并已與國(guó)內(nèi)外眾多家大學(xué)、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)等用戶有著密切的合作關(guān)系。公司的愿景是成為等離子體應(yīng)用領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)供應(yīng)企業(yè),用科研的沉淀和應(yīng)用的創(chuàng)新,為中國(guó)的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略盡自己的義務(wù)和責(zé)任。
等離子清洗機(jī)
PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng),它通過(guò)優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全,且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。
ICP干法等離子刻蝕機(jī) 產(chǎn)品信息
產(chǎn)品特點(diǎn)

4/6/8英寸兼容,單片晶圓真空傳輸系統(tǒng)

低成本高可靠,適合研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)

● 設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,外形小

● 操作簡(jiǎn)便、便于自動(dòng)控制、適合大面積基片刻蝕

● 優(yōu)異的刻蝕均勻性,刻蝕速率快

滿足半導(dǎo)體標(biāo)準(zhǔn)的配方驅(qū)動(dòng)及管理軟件控制系統(tǒng)

● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小

● 斷面輪廓可控性高,刻蝕表面平整光滑


技術(shù)參數(shù)

晶圓尺寸:4/6/8英寸兼容

適用工藝:等離子體刻蝕

適用材料:SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy,etc.


應(yīng)用領(lǐng)域

適用領(lǐng)域:化合物半導(dǎo)體,MEMS、功率器件、科研等領(lǐng)域


應(yīng)用.png


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