★產(chǎn)品簡介
適用于各種窯爐工藝氣體濃度的連續(xù)分析,應(yīng)用于生產(chǎn)過程中的氣體參量分析,為實(shí)施過程自動(dòng)控制提供依據(jù),同時(shí)為工藝安全提供保障。系統(tǒng)采用直接抽取法獲取被測(cè)樣氣,可以有選擇的連續(xù)的進(jìn)行在線監(jiān)測(cè)。
★系統(tǒng)特點(diǎn)
○可靠、取樣真實(shí)、響應(yīng)快、分析精度高
○擁有*、性能可靠的分析系統(tǒng)設(shè)計(jì),
○可進(jìn)行多組分模塊配置,配備*的聯(lián)機(jī)管理系統(tǒng)
○具有實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、曲線圖及參數(shù)點(diǎn)控制
○具有多級(jí)過濾取樣裝置,配合預(yù)處理設(shè)備及反吹裝置,有效解決取樣管路堵塞問題
★系統(tǒng)配置
| 序號(hào) | 測(cè)量工藝 | 型號(hào)、規(guī)格 | 測(cè)量范圍 | 取樣探頭及適用溫度范圍 | 可選分析儀 | |
| 1 | 密閉礦熱爐 過程 | EKD-AS8100 | CO:0-30% CO2:0-50% O2:0-10% | EKDQ5 | ≤800℃ | EKD-O5C氧分析儀 EKD-U5C紅外CO2分析儀 EKD-U5C紅外CO分析儀 |
| 2 | 電石爐尾氣 過程 | EKD-AS8200 | O2:0-5% H2:0-10% CO:0-85% | EKDQ5 | ≤800℃ | EKD-O5C氧分析儀 EKD-H5C氫分析儀 EKD-U5C紅外CO分析儀 |
| 3 | 硅鐵爐過程 | EKD-AS8300 | O2:0-1000ppm H2:0-50% H2O:-80℃~+20℃ | EKDQ5型 | ≤800℃ | EKD-O3C氧分析儀 EKD-H5C氫分析儀 EKD-W5C露點(diǎn)分析儀 |
| 4 | 退火爐過程 | EKD-AS8400 | O2:0-1000ppm H2:0-50% CO:0-80% CO2:0-5% | EKDQ5型 | ≤800℃ | EKD-O3C氧分析儀 EKD-H5C氫分析儀 EKD-U5C紅外CO2分析儀 EKD-U5C紅外CO分析儀 |
| 5 | 滲碳爐過程 | EKD-AS8500 | CO:0-30% CO2:0-10% O2:0-1000PPM | EKDQ5型 | ≤800℃ | EKD-O3C氧分析儀 EKD-U5C紅外CO2分析儀 EKD-U5C紅外CO分析儀 |
| 6 | 石灰窯、回轉(zhuǎn)窯過程 | EKD-AS8600 | CO:0-2% O2:0-10% CO2:0-25% | EKDQ5型 | ≤800℃ | EKD-O5C氧分析儀 EKD-U5C紅外CO分析儀 |


















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