產(chǎn)品描述
CETAC的激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線源于之一的Photon Machines團(tuán)隊(duì)（縮寫PMI），其代產(chǎn)品于1995年問世，該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造及應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，產(chǎn)品線涉及213nm固態(tài)激光、193nm準(zhǔn)分子激光、飛秒激光系統(tǒng)（與ICP-MS聯(lián)用），及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)（與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用），此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強(qiáng)并*系統(tǒng)的功能，足以為元素分析用戶提供的激光剝蝕技術(shù)。
產(chǎn)品特點(diǎn)
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)內(nèi)置性能良好密閉的泵浦燈和MIL-SPEC標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)制造的激光源，給操作者帶來非常穩(wěn)定的激光能量和低維護(hù)成本，配備了高精度獨(dú)立減震光學(xué)平臺后，系統(tǒng)能夠在多種苛刻環(huán)境中進(jìn)行多種樣品分析。
LSX-213 G2+ 使用的高性能硬件及高精度光學(xué)部件，帶來效果優(yōu)異的光學(xué)分辨率，達(dá)到清晰觀察效果的同時并具有寬泛的視野，配備高質(zhì)量、多陣列和亮度可調(diào)的透射照明和反射照明系統(tǒng)，確保在極大放大倍數(shù)下也能清晰觀察樣品。
LSX-213 G2+ 采用開放式樣品池位置設(shè)計(jì)，能夠兼容多種樣品池，并支持用戶定制樣品池。軟件方面可以控制內(nèi)置光圈自動切換，剝蝕斑點(diǎn)直徑范圍4-200μm，系統(tǒng)通過與ICP通訊實(shí)時調(diào)整能量、斑點(diǎn)大小和掃描速度等參數(shù)。 簡潔實(shí)用的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，不僅提供了穩(wěn)定的性能，同時具有良好的易維護(hù)性，為您提供便利高效的工作過程，實(shí)現(xiàn)定點(diǎn)——剝蝕——分析的三步目標(biāo)。
技術(shù)參數(shù)
五倍頻213nm Q-switched控制的Nd:YAG固態(tài)激光源，脈沖能量≥6mJ，脈沖寬度≤4ns
脈沖穩(wěn)定性＜3%
平頂激光技術(shù)，達(dá)到良好的剝蝕坑
激光光路和觀察光路獨(dú)立設(shè)計(jì)，防止機(jī)械震動干擾和熱源干擾，具有非常高的穩(wěn)定性
脈沖頻率1-20Hz可調(diào)，輸出能量1-99%可調(diào)
剝蝕斑點(diǎn)范圍4-200μm
密閉且易維護(hù)的激光源設(shè)計(jì)
計(jì)算機(jī)控制，連續(xù)調(diào)節(jié)的等焦面共焦點(diǎn)設(shè)計(jì)，顯微光學(xué)放大倍數(shù)15-60x
觀察視野>6mm（光學(xué)分辨率＜2μm）
高強(qiáng)度LED陣列照明系統(tǒng)
電動旋轉(zhuǎn)偏振系統(tǒng)
開放式樣品池位置設(shè)計(jì)，靈活性高
多種樣品池可選，兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
XY平臺步進(jìn)分辨率0.16μm
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