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離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱日立科學(xué)儀器(北京)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2025/6/22 9:18:49
  • 訪問次數(shù)169
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     日立*集團(tuán)的企業(yè)理念是“以成為先端技術(shù)領(lǐng)域里提供高科技解決方案的*為目標(biāo)”。在這個(gè)理念的指引下,將電子裝置系統(tǒng)、生命科學(xué)系統(tǒng)、信息電子系統(tǒng)、*產(chǎn)業(yè)材料系統(tǒng)等各個(gè)事業(yè)部門的“先端技術(shù)”推向世界的前線。
     為了應(yīng)對(duì)日新月異的技術(shù)革新和需求的多樣化,達(dá)成事業(yè)的化,日立*集團(tuán)同時(shí)具有用先端技術(shù)開發(fā)制造新產(chǎn)品的制造功能和向提供優(yōu)化解決方案的貿(mào)易公司機(jī)能,是一家在先端科技領(lǐng)域里向*更快、更好地提供產(chǎn)品和服務(wù)的性企業(yè)。
     日立*集團(tuán)重視的是在中國(guó)地區(qū)的事業(yè)戰(zhàn)略。我們?cè)谏虾?、北京、深圳、香港設(shè)立了獨(dú)資公司,這些地方分公司在中國(guó)的11個(gè)地區(qū)設(shè)有銷售和技術(shù)服務(wù)網(wǎng)點(diǎn)。同時(shí)在蘇州和大連還設(shè)有生產(chǎn)基地。日立*集團(tuán)不但支持中國(guó)電子產(chǎn)業(yè)和高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的半導(dǎo)體制造,而且提供各種解析設(shè)備,LCD制造和檢查設(shè)備,芯片貼裝設(shè)備等。在保障人民安全和健康的科學(xué)醫(yī)療領(lǐng)域,還提供各種解析、分析儀器及應(yīng)用相關(guān)系統(tǒng)等*開發(fā)產(chǎn)品和相應(yīng)的優(yōu)質(zhì)且*的售后服務(wù)。此外,日立*集團(tuán)從中國(guó)各地向*提供支持電子、高科技、汽車產(chǎn)業(yè)、環(huán)境和節(jié)能技術(shù)的各種新功能材料的采購(gòu)解決方案,通過(guò)靈活利用網(wǎng)絡(luò)和其貿(mào)易公司功能,實(shí)現(xiàn)創(chuàng)造附加價(jià)值的事業(yè)模式。
      日立*中國(guó)實(shí)業(yè)集團(tuán)作為被大家所信賴的企業(yè),在遵紀(jì)守法的同時(shí),力爭(zhēng)創(chuàng)造新的價(jià)值,        以“客戶*位為根本”開展工作,探求持續(xù)性發(fā)展,通過(guò)營(yíng)銷活動(dòng)為中國(guó)的高科技產(chǎn)業(yè)、環(huán)境及能源事業(yè)、社會(huì)基礎(chǔ)設(shè)施的安全、人民健康等方面的發(fā)展,不斷地做著積極的貢獻(xiàn)。衷心希望今后也能夠繼續(xù)得到大家的支持和厚愛。

 

分子熒光光譜,原子吸收光譜,液相色譜
簡(jiǎn)介日立推出的ArBlade5000離子研磨系統(tǒng)具備高產(chǎn)量和廣域橫截面樣品制備能力,采用氬離子束濺射效應(yīng)進(jìn)行樣品表面拋光,避免了傳統(tǒng)機(jī)械拋光帶來(lái)的變形和機(jī)械應(yīng)力
離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000 產(chǎn)品信息
簡(jiǎn)介
日立推出的ArBlade 5000離子研磨系統(tǒng)具備高產(chǎn)量和廣域橫截面樣品制備能力,采用氬離子束濺射效應(yīng)進(jìn)行樣品表面拋光,避免了傳統(tǒng)機(jī)械拋光帶來(lái)的變形和機(jī)械應(yīng)力。該系統(tǒng)配備PLUS II離子槍技術(shù),研磨速度快達(dá)1mm/hr以上,并能實(shí)現(xiàn)寬度8mm的廣域橫截面研磨,適用于電子、材料等領(lǐng)域的研發(fā)及質(zhì)量控制。其混合研磨功能和用戶友好的LCD觸摸面板提升了操作便利性和樣品處理效率。

       日立ArBlade 5000離子研磨系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量,并制備廣域橫截面樣品。


  離子研磨系統(tǒng)使用通過(guò)在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來(lái)拋光樣品的表面。樣品預(yù)處理系統(tǒng)可以用于電子和材料等各個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)和質(zhì)量控制等。


  與機(jī)械拋光不同,離子研磨系統(tǒng)處理樣品而不會(huì)變形或施加機(jī)械應(yīng)力。因此,用于預(yù)處理樣品的離子銑削系統(tǒng)的應(yīng)用范圍不斷擴(kuò)大,不僅包括掃描電子顯微鏡(SEM),還包括原子力顯微鏡(SPM / AFM)等。離子銑削系統(tǒng)應(yīng)用范圍廣泛,日立高新收集了用戶在各種領(lǐng)域提供的關(guān)鍵性建議和改進(jìn),并將它們納入到的設(shè)計(jì)平臺(tái)。


  新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能,能夠進(jìn)行橫截面研磨,是日立離子研磨系統(tǒng)的標(biāo)志。此功能使樣品能夠根據(jù)所需的目的和應(yīng)用進(jìn)行預(yù)處理。


  ArBlade 5000還具有PLUS II離子槍技術(shù)設(shè)計(jì)。這是一種新的氬離子槍,可以實(shí)現(xiàn)了1mm/hr以上的截面銑削速度(日立高新的IM4000Plus型號(hào)的兩倍)。新系統(tǒng)使用戶能夠在比以前更短的時(shí)間內(nèi)準(zhǔn)備橫截面,包括陶瓷和金屬等硬質(zhì)材料,這往往需要較長(zhǎng)的加工時(shí)間。


  此外,日立高新開發(fā)了全新的寬區(qū)域橫截面研磨,以實(shí)現(xiàn)橫截面研磨,研磨寬度為8mm,從而可以制備比以往更大的截面樣品。通過(guò)與下一代氬離子槍的協(xié)同效應(yīng),新的ArBlade 5000可以與市場(chǎng)上可用的任何其他離子系統(tǒng)一起制備廣域橫截面樣品。

  

主要特點(diǎn)

  1.能夠進(jìn)行橫截面和平面的混合研磨系統(tǒng)。

  2.通過(guò)PLUS II離子槍技術(shù)設(shè)計(jì)高速氬離子槍實(shí)現(xiàn)1mm/hr或更高的橫截面研磨速度。

  3.通過(guò)使用廣域橫截面研磨,實(shí)現(xiàn)寬度達(dá)8mm的廣域加工。

  4.基于采用LCD觸摸面板的全新控制系統(tǒng),增強(qiáng)了可操作性。


關(guān)鍵詞:電子顯微鏡 顯微鏡
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