ADEV進口激光氣體分析儀
產(chǎn)品概述
Atlats-900激光氣體分析儀基于半導體激光吸收光譜(DLAS)技術(shù),無需采樣預處理系統(tǒng),能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環(huán)境下進行原位(in-situ)氣體濃度測量的優(yōu)異分析儀表。Atlats-900激光氣體分析儀采用隔爆設計,ADEV進口激光氣體分析儀無需對儀表進行正壓吹掃,提高儀表的應用適應性,為缺乏正壓氣源或氣源壓力不穩(wěn)定的應用場合提供了完整的防爆選擇方案。

產(chǎn)品特點
Atlats-900激光氣體分析儀由于采用半導體激光吸收光譜(DLAS)技術(shù),ADEV進口激光氣體分析儀從根本上解決了采樣預處理帶來諸如響應滯后、維護頻繁、易堵易漏、易損件多和運行費用高等各種問題,并具有如下特點:
測量精度高、漂移小
原位隔爆減小對正壓氣源潔凈度的依賴
操作方便、組網(wǎng)靈活
儀器穩(wěn)定性高
適用行業(yè)
鋼鐵、冶金、熱電、石化、化工、焦化等行業(yè)
ADEV進口激光氣體分析儀測量氣體參數(shù)
| 氣體 | 測量精度 | 測量范圍 |
| O2 | 100ppm | 0-1% Vol.,0-99%Vol. |
| CO | 10 ppm | 0-1000ppm,0-99%Vol. |
| CO2 | 10 ppm | 0-2000ppm,0-99%Vol. |
| H2O | 0.3 ppm | 0-10ppm,0-99%Vol. |
| H2S | 20 ppm | 0-200ppm,0-99%Vol. |
| HF | 0.02 ppm | 0-1ppm,0-99%Vol. |
| HCl | 0.1 ppm | 0-7ppm,0-99%Vol. |
| HCN | 0.3 ppm | 0-20ppm,0-1%Vol. |
| NH3 | 0.1 ppm | 0-10ppm,0-99%Vol. |
| CH4 | 0.4 ppm | 0-200ppm,0-99%Vol. |
| C2H2 | 0.1 ppm | 0-10ppm,0-99%Vol. |
| C2H4 | 0.6 ppm | 0-100ppm,0-99%Vol. |
| CH3I | 0.6 ppm | 0-100ppm,0-99%Vol. |
| 測量原理 | 可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS) | |
| 技術(shù)指標 | 線性誤差 | ≤±1%F.S |
| 量程漂移 | ≤±1%F.S/半年 | |
| 重復性 | ≤±1% | |
| 防爆等 | ExdIICT6 Gb | |
| 防護等 | IP66 | |
| 響應時間 | 預熱時間 | ≤15min |
| 響應時間(T90) | ≤1s | |
| 接口信號 | 摸擬量輸出 | 2路4-20mA輸出(隔離、*大負載750Ω) |
| 繼電器輸出 | 3路繼電器(24V,1A) | |
| 模擬量輸入 | 2路4-20mA輸入(溫度、壓力補償) | |
| 數(shù)字通訊 | RS485/RS232/GPRS | |
| 激光**標準 | GB 7247,1-2001(idt IEC 60825-1:1993) | |
| 電氣特性 | 電源 | 24VDC(18~36VDC) |
| 功耗 | <10W | |
| EMC | IEC61000-4-2,,IEC61000-4-3,IEC61000-4-4,IEC 61000-4-5,IEC 61000-4-11 | |
| 工作條件 | 電氣全安 | IEC 61010-1 |
| 環(huán)境溫度 | -30℃~+60℃ | |
| 存儲溫度 | -40℃~+80℃ | |
| 吹掃氣體 | 0.3~0.8MPa工業(yè)氮氣、凈化儀表氣等 | |
| 安裝 | 安裝方式 | 原位安裝 |















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