制藥廠離心機(jī)專用激光氧分析儀，ADEV激光氧分析儀采用激光測(cè)試原理來測(cè)量離心機(jī)內(nèi)氧氣含量，不受腐蝕性氣體影響，制藥廠離心機(jī)專用激光氧分析儀包括安裝在電子設(shè)備外殼內(nèi)的一個(gè)測(cè)量探頭，常用于制藥廠離心機(jī)、惰性氣體發(fā)生器、發(fā)酵和堆肥工藝監(jiān)視、煙道氣體測(cè)量、惰性氣體密封和嚴(yán)格環(huán)境下的氧缺乏監(jiān)視。

制藥廠離心機(jī)專用激光氧分析儀

ADEV激光氧分析儀采用激光測(cè)試原理來測(cè)量離心機(jī)內(nèi)氧氣含量，不受腐蝕性氣體影響，該儀器包括安裝在電子設(shè)備外殼內(nèi)的一個(gè)測(cè)量探頭，常用于制藥廠離心機(jī)、惰性氣體發(fā)生器、發(fā)酵和堆肥工藝監(jiān)視、煙道氣體測(cè)量、惰性氣體密封和嚴(yán)格環(huán)境下的氧缺乏監(jiān)視。

ADEV OPT-880制藥廠離心機(jī)專用激光氧分析儀 光學(xué)氧分析儀產(chǎn)品特點(diǎn)

·可選的采樣室用于高溫處理，壓力提升以及極其惡劣的

機(jī)械環(huán)境直接接觸式探頭或采樣室選項(xiàng)；由埃登威上海進(jìn)行銷售

·耐受腐蝕性化學(xué)氣體；

·耐受極濕環(huán)境甚至液態(tài)水；

·維護(hù)量低；

·預(yù)防性維護(hù)診斷；

·加熱的光學(xué)表面防止結(jié)露；

·不銹鋼網(wǎng)孔過濾裝置和可選的多孔滲水PTFE過濾器使得光學(xué)探頭防灰、防塵。而且，制藥廠離心機(jī)專用激光氧分析儀的智能測(cè)量算法進(jìn)一步降低了污染物所造成的影響并可在測(cè)量性能受到影響前發(fā)出維護(hù)提示；

·制藥廠離心機(jī)專用激光氧分析儀傳感器采用的TDL技術(shù)是當(dāng)今市場(chǎng)端的技術(shù)。 TDL的原理是測(cè)量激光束在樣氣中的衰減，調(diào)整氧分子的波長到某一特定值來感應(yīng)激光中的氧氣。因此，測(cè)量到的衰減量就只針對(duì)通過光束的氧氣含量的衰減。

制藥廠離心機(jī)專用激光氧分析儀 光學(xué)氧分析儀技術(shù)參數(shù)

測(cè)量范圍 ：0～25% 氧氣主營:微量氧分析儀,藥品殘氧儀,露點(diǎn)儀,熱導(dǎo)氣體分析儀,GE流量計(jì),OX-1氧傳感器,頂空分析儀,紅外氣體分析儀,高溫濕度儀,西門子U23分析儀,ppb微量水分析儀,OXY.IQ氧分析儀,煙氣濕度儀,燃?xì)鉄嶂祪x,Kaye溫度驗(yàn)證儀,L&W白度,儀激光氧分析儀,壓縮空氣露點(diǎn)儀,干燥機(jī)露點(diǎn)儀,激光氣體分析儀,便攜式露點(diǎn)儀,便攜式微量氧分析儀

顯示分辨率：0.1%

準(zhǔn)確度： ±0.2% 氧氣（包括噪音，線性和重復(fù)性）

溫度漂移： ±2％讀數(shù)

穩(wěn)定性 ：±1％讀數(shù)/ 年

零點(diǎn)漂移 ：±0.1％氧氣/年

測(cè)量的反應(yīng)時(shí)間：＜ 3 秒

靜止空氣中的擴(kuò)散反應(yīng)時(shí)間：T63 / T90

不帶過濾器10秒/20秒

不銹鋼網(wǎng)過濾器10秒/25秒

不銹鋼網(wǎng)和PTFE過濾器30秒/70秒

不帶壓力補(bǔ)償?shù)膲毫ζ疲?/span>0.8～1.2bar -2%讀數(shù)

1.2～1.4bar -5%讀數(shù)

二氧化碳和水氣背景氣體的影響（無補(bǔ)償）：CO₂濃度低于6% ＜1%讀數(shù)

露點(diǎn)低于30℃ ＜1%讀數(shù)

背景氣體補(bǔ)償準(zhǔn)確度：0～50%濃度CO₂±0.5%讀數(shù)

0～300g/m³水含量（Td=80℃） ±1%讀數(shù)

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