制藥廠離心機專用激光氧分析儀，ADEV激光氧分析儀采用激光測試原理來測量離心機內(nèi)氧氣含量，不受腐蝕性氣體影響，制藥廠離心機專用激光氧分析儀包括安裝在電子設(shè)備外殼內(nèi)的一個測量探頭，常用于制藥廠離心機、惰性氣體發(fā)生器、發(fā)酵和堆肥工藝監(jiān)視、煙道氣體測量、惰性氣體密封和嚴格環(huán)境下的氧缺乏監(jiān)視。

制藥廠離心機專用激光氧分析儀

ADEV激光氧分析儀采用激光測試原理來測量離心機內(nèi)氧氣含量，不受腐蝕性氣體影響，該儀器包括安裝在電子設(shè)備外殼內(nèi)的一個測量探頭，常用于制藥廠離心機、惰性氣體發(fā)生器、發(fā)酵和堆肥工藝監(jiān)視、煙道氣體測量、惰性氣體密封和嚴格環(huán)境下的氧缺乏監(jiān)視。

ADEV OPT-880制藥廠離心機專用激光氧分析儀 光學(xué)氧分析儀產(chǎn)品特點

·可選的采樣室用于高溫處理，壓力提升以及極其惡劣的

機械環(huán)境直接接觸式探頭或采樣室選項；由埃登威上海進行銷售

·耐受腐蝕性化學(xué)氣體；

·耐受極濕環(huán)境甚至液態(tài)水；

·維護量低；

·預(yù)防性維護診斷；

·加熱的光學(xué)表面防止結(jié)露；

·不銹鋼網(wǎng)孔過濾裝置和可選的多孔滲水PTFE過濾器使得光學(xué)探頭防灰、防塵。而且，制藥廠離心機專用激光氧分析儀的智能測量算法進一步降低了污染物所造成的影響并可在測量性能受到影響前發(fā)出維護提示；

·制藥廠離心機專用激光氧分析儀傳感器采用的TDL技術(shù)是當今市場端的技術(shù)。 TDL的原理是測量激光束在樣氣中的衰減，調(diào)整氧分子的波長到某一特定值來感應(yīng)激光中的氧氣。因此，測量到的衰減量就只針對通過光束的氧氣含量的衰減。

制藥廠離心機專用激光氧分析儀 光學(xué)氧分析儀技術(shù)參數(shù)

測量范圍 ：0～25% 氧氣主營:微量氧分析儀,藥品殘氧儀,露點儀,熱導(dǎo)氣體分析儀,GE流量計,OX-1氧傳感器,頂空分析儀,紅外氣體分析儀,高溫濕度儀,西門子U23分析儀,ppb微量水分析儀,OXY.IQ氧分析儀,煙氣濕度儀,燃氣熱值儀,Kaye溫度驗證儀,L&W白度,儀激光氧分析儀,壓縮空氣露點儀,干燥機露點儀,激光氣體分析儀,便攜式露點儀,便攜式微量氧分析儀

顯示分辨率：0.1%

準確度： ±0.2% 氧氣（包括噪音，線性和重復(fù)性）

溫度漂移： ±2％讀數(shù)

穩(wěn)定性 ：±1％讀數(shù)/ 年

零點漂移 ：±0.1％氧氣/年

測量的反應(yīng)時間：＜ 3 秒

靜止空氣中的擴散反應(yīng)時間：T63 / T90

不帶過濾器10秒/20秒

不銹鋼網(wǎng)過濾器10秒/25秒

不銹鋼網(wǎng)和PTFE過濾器30秒/70秒

不帶壓力補償?shù)膲毫ζ疲?/span>0.8～1.2bar -2%讀數(shù)

1.2～1.4bar -5%讀數(shù)

二氧化碳和水氣背景氣體的影響（無補償）：CO₂濃度低于6% ＜1%讀數(shù)

露點低于30℃ ＜1%讀數(shù)

背景氣體補償準確度：0～50%濃度CO₂±0.5%讀數(shù)

0～300g/m³水含量（Td=80℃） ±1%讀數(shù)

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