| 參考價 | ￥20000.00 |
| 規(guī)格 | 1 | 20000元 | 1 臺可售 |
產(chǎn)品簡介
| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
秀洲區(qū)硅片清洗超純水設(shè)備/按需定制
高純度：硅片表面極為敏感，水中的雜質(zhì)離子如鈣、鎂、鐵、氯、硫酸根等會在硅片表面吸附或形成化合物，影響硅片的電學(xué)性能和后續(xù)工藝。通常要求超純水的電阻率達到 18.2MΩ?cm 以上，幾乎不含任何離子雜質(zhì)。
低顆粒度：硅片制造工藝不斷向精細化發(fā)展，微小顆粒會導(dǎo)致光刻圖案失真、短路等問題。因此，用于硅片清洗的超純水需要嚴格控制顆粒數(shù)量，一般要求每升水中大于 0.1μm 的顆粒數(shù)不超過 100 個。
低微生物含量：微生物在硅片表面生長繁殖會改變硅片表面化學(xué)性質(zhì)，還可能釋放出代謝產(chǎn)物污染硅片。所以，超純水的微生物指標要求**，通常每毫升水中細菌總數(shù)不超過 1CFU。
低有機物含量：有機物可能在硅片表面形成有機膜，影響硅片與其他材料的粘附性和化學(xué)反應(yīng)活性。一般要求超純水中的總有機碳（TOC）含量低于 10ppb
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