設(shè)備概況：（僅做參考）

主要功能：本設(shè)備主要手動搬運方式，通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理，從而達(dá)到一個用戶要求的效果。
設(shè)備名稱：KOH Etch刻蝕清洗機(jī) 設(shè)備型號：-SC-NZD254
整機(jī)尺寸(參考)：自動設(shè)備約2500mm（L）×1800mm(W)×2400mm(H)；
被清洗硅片尺寸： 2--6寸（25片/籃）
設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;
操作形式：手動

各槽位主要技術(shù)工藝：

設(shè)備組成：
該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成
設(shè)備走向：方案圖按 “左進(jìn)右出”方式，另可按要求設(shè)計“右進(jìn)左出”方式；
設(shè)備描述：
此裝置是一個全自動的處理設(shè)備。
8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作
每個槽前上方對應(yīng)操作按鈕，與觸摸屏互相配合
主體材料：德國進(jìn)口10mmPP板，優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架，外包3mmPP板防腐；
臺面板為德國10mm PP板；
DIW管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材，需滿足18M去離子水水質(zhì)要求，酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF；
采用國際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工，焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成;
排風(fēng)：位于機(jī)臺后上部
工作照明：上方防酸照明
三菱、歐姆龍 PLC控制。
安全考慮：
設(shè)有EMO(急停裝置)，
強(qiáng)電弱點隔離
所有電磁閥均高于工作槽體工作液面
電控箱正壓裝置（CDA Purge）
設(shè)備三層防漏 樓盤傾斜 漏液報警 設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)
排放管路加過濾裝置
所有槽體折彎成型，可有效避免死角顆粒;

化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備（KOH腐蝕刻蝕機(jī)、RCA清洗機(jī)、去膠機(jī)、外延片清洗機(jī)、酸堿腐蝕機(jī)、顯影機(jī)等）以及干燥設(shè)備（馬蘭戈尼干燥機(jī)Marangoni、單腔甩干機(jī)、雙腔甩干機(jī)），,.