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  • Zeta電位及納米粒度分析儀
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品牌

廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號

zate

訪問次數(shù)

501

產(chǎn)地

上海市

更新時間

2026/3/27 15:36:44

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Zeta電位及納米粒度分析儀產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品新舊 全新
Zeta電位及納米粒度分析儀
納米粒度測量——動態(tài)光背散射技術(shù)隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低,使得經(jīng)典動態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(PCS)變得更加不確定。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測量中的應(yīng)用。作為行業(yè)的先鋒,早在1990年,超細顆粒分析儀器UPA(UltrafineParticle Analyzer)研發(fā)成功

Zeta電位及納米粒度分析儀詳細信息

 

Zeta電位及納米粒度分析儀

技術(shù)參數(shù):

粒度分析范圍: 0.3nm-10µm

重現(xiàn)性:誤差≤1%

濃度范圍:ppb-40%

檢測角度:180°

分析時間:30-120秒

準確性:全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子

測量精度: 無需預選,依據(jù)實際測量結(jié)果,自動生成單峰/多峰分布結(jié)果

理論設(shè)計溫度:0-90℃,可以進行程序升溫或降溫

兼容性:兼容任何有機溶劑及大多數(shù)酸性或堿性溶液 

測量原理:

粒度測量:動態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理分子量測量:水力直徑或德拜曲線技術(shù):膜電極,微電場電勢測量,“Y”型光纖探針設(shè)計,異相多普勒頻移,可控參比方法,快速傅立葉轉(zhuǎn)換算法,非球形顆粒校正因子

光學系統(tǒng):

3mW780nm半導體固定位置激光器,通過梯度步進光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號,無需校正光路 

軟件系統(tǒng):

先進的Microtrac FLEX軟件提供*的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護,電子簽名和授權(quán)等。

外部環(huán)境:

電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz環(huán)境要求:溫度,10-40°C相對濕度:小于95%

 配置:

有內(nèi)置和外置光纖測量探頭可選

Zeta電位及納米粒度分析儀

主要特點:﹡采用的動態(tài)光散射技術(shù),引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法﹡的“Y”型光纖光路系統(tǒng),通過藍寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對應(yīng)產(chǎn)生微電場,測量同一體系的Zeta電位, 避免樣品交叉污染與濃度變化。﹡的異相多譜勒頻移技術(shù),較之傳統(tǒng)的方法,獲得光信號強度高出幾個數(shù)量級,提高分析結(jié)果的可靠性。﹡的可控參比方法(CRM),能精細分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。﹡超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計,減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。﹡的快速傅利葉變換算法(FFT,Fast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時間。﹡膜電極設(shè)計,避免產(chǎn)生熱效應(yīng),能準確測量顆粒電泳速度。﹡無需比色皿,毛細管電泳池或外加電極池,僅需點擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果﹡消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,諸如光路中不同光學元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質(zhì)的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。

 

關(guān)鍵詞:粒度分析儀

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