
半自動(dòng)內(nèi)外層DI
| 序號(hào) | 系列 | 標(biāo)準(zhǔn)系列 |
| 設(shè)備型號(hào) | KST-DI2432-6XLB | |
| 1 | 生產(chǎn)尺寸 | 12"×12" (Min) 24.5"×32.5" (Max) |
| 2 | 基材厚度 | 0.08 - 4.0 mm |
| 3 | 線寬解析精度 | 40μm/40μm |
| 4 | 景深 | ±300μm |
| 5 | 對(duì)位精度 | ±8μm |
| 6 | 內(nèi)層層間對(duì)準(zhǔn)精度 | 24μm |
| 7 | 制板速度 | 24.5 "×32.5 " 20mj : 8.0–9.0 PNL/min |
| 8 | 感光材料 | 干膜、DI專用油墨 |
| 9 | DI鏡頭個(gè)數(shù) | 6 |
| 10 | 均勻性 | ≥90% |
| 11 | 光源波長(zhǎng) | 405nm |
| 12 | 光源輸出功率 | 65W/頭 |
| 13 | 曝光方式 | 單面曝光 |
| 14 | 資料輸入 | Gerber274X、Gerber274D、ODB+ + |
| 15 | 圖形脹縮管理 | 固定脹縮;自動(dòng)脹縮;分區(qū)脹縮;測(cè)量脹縮 |
| 16 | 掃碼MARK功能 | 打印日期;時(shí)間;序號(hào);脹縮系數(shù)等 |
| 17 | 靶標(biāo)對(duì)位 | 正面對(duì)位 |
| 18 | 多區(qū)域曝光 | 支持 |
| 19 | 工作高度 | 800±50mm |
| 20 | 環(huán)境需求 | 溫度:22±2°C 濕度:55%±5% 萬(wàn)級(jí)無(wú)塵室 |
| 21 | 電源需求 | 三相五線;380VAC/50Hz/ 20 KVA |
| 22 | 氣壓源需求 | 6-7Kg/cm²,流量500L/min |
| 23 | 冰水需求 | 7-12℃,流量70L/min,壓力2-3Kg/cm² ×2 |
| 24 | 設(shè)備尺寸 | 2980mm (L)×1760mm (W)×2050mm (H) |
| 25 | 設(shè)備重量 | 總重約 4500Kg |


















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