VNX55-E 大流量膜堆采用成熟可靠的 IONPURE 連續(xù)電去離子（CEDI）技術(shù)生產(chǎn)高純水。專門針對(duì)微電子行業(yè)所需的超純水而優(yōu)化設(shè)計(jì)。

每個(gè) VNX55-E 膜堆的名義產(chǎn)水流量為 12.5m³/h ( 55gpm）。通過(guò)在系統(tǒng)中并聯(lián)多個(gè) VNX55-E 膜堆可以使單套系統(tǒng)出力達(dá)到甚至超過(guò) 228m³/h ( 1000gpm）。

● 保證產(chǎn)水電阻率達(dá)到 18MΩ.cm ，為微電子和超純水系統(tǒng)優(yōu)化設(shè)計(jì)

● 硅和硼的去除率 ≥ 95% 

● 鋼離子和氫胃子的去除率 ≥ 99.8%

● 回收率 98.5 - 99% 達(dá)到高節(jié)水和循環(huán)使用

● 不需要使用酸／堿、中和系統(tǒng)或樹脂罐

● 運(yùn)行費(fèi)用遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)離子交換

● Through-port 墊片密封，無(wú)泄漏

● 大流量膜堆降低了系統(tǒng)成本，簡(jiǎn)化了機(jī)架設(shè)計(jì)

● 膜堆附帶有連接件

● 膜堆上配有接線盒

● 可以提供 50mm 對(duì)焊聚丙烯（pp）連接件及圖紙

應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽(yáng)光直射，室內(nèi)環(huán)境溫度不超過(guò)45℃（113°F）