VNX55-EX 大流量膜堆采用成熟可靠的 IONPURE 連續(xù)電去離子（CEDI）技術生產高純水。專門針對微電子行業(yè)所需的超純水而優(yōu)化設計。

每個 VNX55-EX 膜堆的名義產水流量為 12.5m³/h ( 55gpm）。通過在系統(tǒng)中并聯(lián)多個 VNX55-EX 膜堆可以使單套系統(tǒng)出力達到甚至超過 228m³/h ( 1000gpm）。

● 保證產水電阻率達到 18MΩ.cm，為微電子和超純水系統(tǒng)優(yōu)化設計

● 硅和硼的去除率 ≥ 99%

● 鈉離子和氯離子的去除率 ≥ 99.9%

● 回收率 95-97.5% 達到高節(jié)水和循環(huán)使用

● 不需要使用酸／堿、中和系統(tǒng)或樹脂罐

● 運行費用遠低于傳統(tǒng)離子交換

● Through-port 墊片密封，無泄漏

● 大流量膜堆降低了系統(tǒng)成本，簡化了機架設計

● 膜堆附帶有連接件

● 膜堆上配有接線盒

● 可以提供 50mm 對焊聚丙烯（PP）連接件及圖紙

 

應安裝在室內，避免陽光直射，室內環(huán)境溫度不超過45℃（113°F）