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GMD2000 光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)

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型號(hào) GMD2000: 訪問次數(shù)
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產(chǎn)地 江蘇蘇州市: 更新時(shí)間
2026/9/27 8:28:59

光刻膠去除劑分散機(jī) 高剪切清洗液均質(zhì)機(jī)超高速三級(jí)乳化機(jī)

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太倉希德機(jī)械科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地

進(jìn)口

產(chǎn)品新舊

全新

光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子，先研磨后分散效果更佳。

光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)詳細(xì)信息

光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)

　　產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞：光刻膠去除劑分散機(jī)，高剪切清洗液均質(zhì)機(jī)，氧化物拋光液研磨分散機(jī)，超高速三級(jí)乳化機(jī)

　　二、光刻膠去除劑

　　根據(jù)光刻膠下游應(yīng)用領(lǐng)域不同，公司光刻膠去除劑包括集成電路制造用、晶圓級(jí)封裝用、LED/OLED用等系列產(chǎn)品，是用于圖形化工藝光刻膠殘留物去除的濕化學(xué)品，通過將半導(dǎo)體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導(dǎo)體晶片，去除半導(dǎo)體晶片上的光刻膠殘留物。

　　三、光刻膠去除技術(shù)

　　隨著集成電路技術(shù)的發(fā)展，其關(guān)鍵尺寸逐漸降低到亞微米。濕法蝕刻工藝因其各向同性蝕刻特性，越來越不能滿足需求，干法蝕刻工藝應(yīng)運(yùn)而生。干法蝕刻工藝提供各向異性蝕刻形成金屬線(metal)、通孔(via)的同時(shí)，其離子束對(duì)光刻膠及鋁硅銅、鋁銅、氧化物非介電質(zhì)材質(zhì)進(jìn)行轟擊，使其表面形成高度交聯(lián)的光刻膠殘留物，同時(shí)因氬氣轟擊反濺作用，側(cè)壁富含金屬材質(zhì)。干法灰化工藝的采用，使其殘留物中含有有機(jī)、無機(jī)氧化物及其金屬化合物。這就要求光刻膠去除同時(shí)具有有機(jī)殘留物、無機(jī)殘留物以及金屬交聯(lián)殘留物去除能力。

四、光刻膠剝離液氧化物分散問題

　　在制備光刻膠去除劑中，需要加入一些無機(jī)氧化物或金屬化合物，以粉體的形式加入液中，納米的細(xì)小顆粒與液體介質(zhì)充分接觸時(shí)候，粒子相互之間的團(tuán)聚力導(dǎo)致粉體出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象，光刻膠去除劑的技術(shù)要求，需將氧化物粉體在液相中均質(zhì)打開，分散均勻。GRS超高速研磨分散機(jī)是我公司好技術(shù)的主要產(chǎn)品，可很好的解聚，均質(zhì)，分散。得到更穩(wěn)定的懸浮液。

　　五、GRS超高速研磨分散機(jī)的優(yōu)勢

　　研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到*的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

　　研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒)，所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。

　　超高剪切速率，SID研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm，線速度為44m/s，剪切速率為約為200000 S-1。而國內(nèi)普通分散機(jī)的轉(zhuǎn)速一般為3000rpm，我們的轉(zhuǎn)速是他們的4-5倍。

　　超細(xì)定轉(zhuǎn)子間隙，SID研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm，而國產(chǎn)分散設(shè)備一般為0.5-0.7mm，間隙越小研磨分散效果越好。

　　高精密度磨頭分散盤定轉(zhuǎn)子，分散盤分為粗、中、細(xì)、超細(xì)齒。

　　4、全新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子，先研磨后分散效果更佳。

　　六、高剪切研磨分散機(jī)

　　研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

　　*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

　　第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)以下為型號(hào)表供參考：

型號(hào)	標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H	輸出轉(zhuǎn)速 rpm	標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s	馬達(dá)功率 KW	進(jìn)口尺寸	出口尺寸
GRS2000/4	400	18000	44	4	DN25	DN15
GRS2000/5	1500	10500	44	11	DN40	DN32
GRS2000/10	4000	7200	44	22	DN80	DN65
GRS2000/20	10000	4900	44	45	DN80	DN65
GRS2000/30	20000	2850	44	90	DN150	DN125
GRS2000/50	60000	1100	44	160	DN200	DN150