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產(chǎn)品簡介
光學薄膜清洗用超純水設備在設計上,采用成熟、可靠、、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流可靠產(chǎn)品,采用PLC控制,全套系統(tǒng)自動化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經(jīng)濟合理。

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