一、產(chǎn)品名稱：GMSD2000金屬性碳納米管漿料高速研磨分散機(jī),碳納米管漿料分散機(jī),多壁碳納米管分散機(jī),多壁碳納米管研磨分散機(jī)

二、多壁碳納米管性質(zhì)及應(yīng)用

多壁碳納米管可以看成是不同管徑的單壁碳納米管套裝而成，少則2層多則達(dá)十多層，層距約為0.343nm，每層納米管式由碳原子通過SP2雜化與周圍3個(gè)碳原子*鍵和后所構(gòu)成的六邊形平面組成的圓柱面，碳納米管直徑在幾納米到幾十納米之間，而長度可達(dá)數(shù)微米，具有較大的長徑比。

多壁碳納米管可用做催化劑材料、儲氫材料、復(fù)合增強(qiáng)材料、分子電子器件、特殊吸附材料等。

三、碳納米管分散技術(shù)三要素

碳納米管分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

1、分散介質(zhì)

（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機(jī)溶劑，碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

（2）碳納米管分散技術(shù)，針對中、低粘度分散介質(zhì)。

2、分散劑

（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

（2）分散劑的用量，與碳納米管比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

（3）水性介質(zhì)中，*使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中，如醇、DMF、NMP， *使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠，*使用TNEDIS 。

3、分散設(shè)備

（1）超聲波分散設(shè)備：非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管，用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會受到限制。

（2）研磨分散設(shè)備：適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管。

（3）采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法，可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管分散劑用量*。

四、碳納米管分散難點(diǎn)

碳納米管分散，其實(shí)也就是所謂的納米級物料的分散，在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

多壁碳納米管漿料一般固含量為5%，隨著充分的分散，漿料的粘稠度及流動(dòng)性會逐漸變好。

五、SGN高剪切分散機(jī)特點(diǎn)

1、SGN研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)為：*級為膠體磨頭定轉(zhuǎn)子，第二級為分散盤定轉(zhuǎn)子；有利于碳納米管漿料的分散，先研磨后分散，避免物料的團(tuán)聚。

2、SGN研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，線速度為44m/s，定轉(zhuǎn)子間隙為0.2-0.3mm，屬于超精細(xì)分散，高速剪切速率，分散后的碳納米管漿料更加均勻穩(wěn)定。

3、SGN研磨分散機(jī)應(yīng)對碳納米管漿料，機(jī)械密封采用合金環(huán)，設(shè)備所有密封圈采用全氟橡膠；另外SGN研磨分散機(jī)更模塊都帶有夾套可進(jìn)行溫度控制，便于各種工藝的要求。

六、SGN碳納米管漿料分散機(jī)案例圖

七、SGN分散機(jī)核心參數(shù)

1、主軸轉(zhuǎn)速：0-14000rpm；

2、處理量：0-10000L/H

3、電機(jī)功率：4kw、11kw、22kw；

4、定轉(zhuǎn)子材質(zhì)：316L；

5、定轉(zhuǎn)子間隙：0.2-0.3mm；

八．GMSD2000金屬性碳納米管漿料高速研磨分散機(jī)選型表