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浙江電子光學(xué)?EDI超純水設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
| 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 產(chǎn)品大小 | 中型 |
| 產(chǎn)品新舊 | 全新 | 反滲透系統(tǒng) | 二級(jí)反滲透 |
| 結(jié)構(gòu)類(lèi)型 | 立式 | 自動(dòng)化程度 | 全自動(dòng) |
浙江電子光學(xué)?EDI超純水設(shè)備詳細(xì)信息
浙江電子光學(xué)•EDI超純水設(shè)備
EDI超純水設(shè)備又稱(chēng)電去離子設(shè)備,一般用于電子光學(xué)行業(yè)生產(chǎn)用水,如半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學(xué)鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路等生產(chǎn)用水需求.
濱潤(rùn)環(huán)保服務(wù)內(nèi)容:
包括設(shè)備工藝設(shè)計(jì)、系統(tǒng)制造、安裝、現(xiàn)場(chǎng)安裝、系統(tǒng)試裝調(diào)整、設(shè)備保修、及售后服務(wù)等。
設(shè)計(jì)參考標(biāo)準(zhǔn):
1)建設(shè)方提供的相關(guān)技術(shù)資料,技術(shù)說(shuō)明,及基本技術(shù)要求;
2)國(guó)家現(xiàn)行有關(guān)設(shè)計(jì)規(guī)范、施工及驗(yàn)收規(guī)范、質(zhì)量評(píng)定標(biāo)準(zhǔn);
3)反滲透系統(tǒng)設(shè)計(jì)依據(jù)美國(guó);
4)ZBG98020-90《水處理設(shè)備系列型譜》;
5)電力裝置的繼電保護(hù)和自動(dòng)裝置設(shè)計(jì)規(guī)范(GB50062-1992);
6) 工業(yè)與民用電力裝置的接地設(shè)計(jì)規(guī)范(GBJ65-1983);
7)GB/T11446.1-1997國(guó)家電子級(jí)超純水標(biāo)準(zhǔn)Ⅰ級(jí)≥18MΩ/CM (25℃)95%以上時(shí)間;
濱潤(rùn)環(huán)保電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備簡(jiǎn)述:
既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎wan全去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水稱(chēng)為超純水,我國(guó)電子工業(yè)部將電子工業(yè)用水劃分為四級(jí)用水標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM),科利達(dá)環(huán)保采用采用當(dāng)今zui先jin的雙級(jí)反滲透純化水處理技術(shù)+EDI模塊化設(shè)計(jì),原水通過(guò)一、二級(jí)反滲透系統(tǒng)去除各種鹽份及雜質(zhì),再經(jīng)過(guò)EDI系統(tǒng)對(duì)反滲透產(chǎn)水高度凈化,使水質(zhì)提高。此電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水,系統(tǒng)工藝先進(jìn)、水質(zhì)穩(wěn)定、自動(dòng)化程度高、操作簡(jiǎn)便、占地少、運(yùn)行費(fèi)用低、綠色環(huán)保、維護(hù)方便,處理后可生產(chǎn)出水電阻率可達(dá)到18.2兆的超純水。
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