1. 各水系統(tǒng)解決方案路線

2.化工行業(yè)水處理設(shè)備典型工藝流程

方案一：

采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→除氧裝置→用水點(diǎn)

方案二：

采用EDI方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級(jí)反滲透或雙級(jí)反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→除氧裝置→用水點(diǎn)

預(yù)處理系統(tǒng)：雙介質(zhì)過濾器或超濾裝置，主要去除水中的顆粒、膠體、懸浮物、大分子有機(jī)物、濁度等，使出水滿足反滲透的進(jìn)水條件(主要有濁度和SDI值兩個(gè)指標(biāo))。

除鹽系統(tǒng)包括一、二級(jí)反滲透和EDI。一級(jí)反滲透作為預(yù)脫鹽裝置，脫除水中大部分的溶解鹽類、顆粒、硬度、活性硅，二級(jí)反滲透和EDI作為精脫鹽裝置，進(jìn)一步脫除水中微量的溶解鹽類、硬度、活性硅，使整個(gè)系統(tǒng)的出水水質(zhì)達(dá)到超高壓亞臨界鍋爐的補(bǔ)水水質(zhì)要求。

EDI產(chǎn)水電導(dǎo)率穩(wěn)定在0.06mS/cm以下，滿足鍋爐補(bǔ)給水的要求(<0.2mS/cm)

硅是鍋爐補(bǔ)給水的一項(xiàng)重要指標(biāo)，膜法除鹽系統(tǒng)各單元對(duì)硅均有較高的脫除率。一級(jí)反滲透脫硅率達(dá)到99%左右;而二級(jí)反滲透進(jìn)水的硅含量較低(84ppb)，其對(duì)硅的脫除率也相對(duì)較低，約86%，而EDI對(duì)硅的脫除率約為83%。系統(tǒng)產(chǎn)水硅含量在0.003mg/L(3ppb)左右。

方案三：

原水→原水池→原水泵→換熱器→管道混合器→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透→中間水箱→中間水泵→電去離子( EDI)→除鹽水箱

補(bǔ)給水系統(tǒng)由預(yù)處理系統(tǒng)、RO預(yù)除鹽系統(tǒng)、EDI精除鹽系統(tǒng)組成

預(yù)處理系統(tǒng)包括原水箱、生水泵、板式換熱器、多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器等，用以除去原水中的懸浮物、膠體等。RO系統(tǒng)包括保安過濾器、高壓泵、反滲透膜和中間水箱，能脫除原水中97%的含鹽量，EDI系統(tǒng)包括中間水泵、電除鹽設(shè)備、除鹽水箱等。

產(chǎn)水電阻率一直穩(wěn)定在5～12.15MΩ?cm之間，操作非常簡單，操作人員只需在計(jì)算機(jī)前即可完成全部操作。