爐體結構

• 爐體由4個小管式爐組成，采用氧化鋁爐管，尺寸為25 OD x 22 ID x 460 Lmm

• 每個加熱模塊都由獨立的溫控系統(tǒng)控制，溫度可達1700℃

• 快速密封法蘭，安裝有機械真空壓力表，進氣端安裝有浮子流量計，樣品可在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理

• 可同時放入4個樣品，在不同溫度下進行熱處理

加熱元件

硅鉬棒

工作溫度&恒溫區(qū)

• 連續(xù)工作溫度1600℃

• 工作溫度 1700℃(< 1 hrs)

• 恒溫區(qū):   30mm(±1℃)，60mm(±5℃)

爐管

• 高純氧化鋁爐管：Φ25X L 460 mm，4根

• 4個浮子流量計

• 快速連接法蘭，KF25真空接口

• 真空度：10-5 torr（采用分子泵）

• 有一真空泵接口（KF25）,可在本公司購買各種真空泵

溫度控制

• 采用觸摸屏設置溫度程序，帶有超溫和斷偶保護

• 4個溫區(qū)分別由4個獨立的溫控系統(tǒng)控制

• 4根B型熱電偶

• 可用電腦設置和顯示溫度程序

加熱速率

10℃/ min

控溫精度

±1℃

淬火（可選）

• 此管式爐可升級為立式淬火爐（加上旋轉機構和淬火劑罐）

功率，工作電壓

6 KW, 208 - 240V單相,   50/60Hz

產(chǎn)品尺寸

• 1000 L x 650 W x 640   H mm

一年質保期，終生維護（不包含爐管，密封圈和加熱元件）

警告 & 應用注意

• 此管式爐，只可在真空或常壓狀態(tài)使用，爐管內(nèi)的相對氣壓不可大于0.02MPa

• 進氣流量<200 SCCM ( 200ml/min)

• 向爐管內(nèi)通氣的氣瓶上必須安裝雙級減壓閥（可在本公司購買）

• 可選購本公司的供氣系統(tǒng)，可用于進行CVD實驗