用于醫(yī)療純化水設(shè)備,制藥廠純水設(shè)備,GMP純化水設(shè)備,超純化水設(shè)備,純凈水設(shè)備,生物試劑純化水設(shè)備
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電子行業(yè)超純水系統(tǒng)產(chǎn)品參數(shù)
| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) | 產(chǎn)品大小 | 中型 |
| 產(chǎn)品新舊 | 全新 | 反滲透系統(tǒng) | 二級反滲透 |
| 結(jié)構(gòu)類型 | 立式 | 自動(dòng)化程度 | 全自動(dòng) |
電子行業(yè)超純水系統(tǒng)詳細(xì)信息
電子行業(yè)超純水系統(tǒng)
為了滿足電子行業(yè)用水需求,根據(jù)光電材料,液晶顯示屏生產(chǎn),加工,清洗等所需使用超純水標(biāo)準(zhǔn),而設(shè)計(jì)并生產(chǎn)的一套超純水設(shè)備。
超純水設(shè)備設(shè)備出水符合標(biāo)準(zhǔn)
超純水設(shè)備出水水質(zhì)wan全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
超純水系統(tǒng)工藝流程
預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)
應(yīng)用領(lǐng)域
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路
LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料
實(shí)驗(yàn)室和中試車間
汽車、家電表面拋光處理
電子行業(yè)超純水系統(tǒng)
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